ROHM丨晶体管详解:结构、分类及工作原理基础

发布时间:2026-08-04 14:45
作者:AMEYA360
来源:ROHM
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  晶体管是一种用于控制电流、放大信号并进行开关(ON/OFF)切换的半导体器件。该器件兼具放大和开关双重功能,在模拟与数字电路设计中均发挥着核心作用。在音响设备中,它会放大微小的音频信号;而在智能手机的处理器中,则根据迭代和用途搭载数千万至数百亿个晶体管,支撑起高速逻辑处理。本文将介绍晶体管的工作原理、主要种类及其在具体电路中的使用方法。

  晶体管的基本原理和作用

  要理解晶体管的工作原理,可将器件本身的功能与其在电路中的作用分开来分析,这样更易于梳理清楚。

  放大和开关原理

  晶体管是一种利用半导体的性质,将微小的输入信号转换为较大输出信号的电子器件。在硅或锗等半导体材料中掺入杂质,可形成能够控制电流流通难易度的区域。微小的电压和电流变化,会作为显著的电流变化被输出。通过电路设计,晶体管可以发挥放大器或开关的作用。

  在放大工作中,施加于输入端的小信号将在输出端被放大数倍至数百倍。在音频放大器中,当将麦克风的微小语音信号放大至扬声器驱动级别时,晶体管会从电源中提取能量并叠加至输出端。输入信号的波形会被忠实保留,仅振幅被放大,因而能够无损地传递信息。

  在开关工作中,可高速切换电流导通状态(ON)和关断状态(OFF)。在数字电路中,这两种状态对应逻辑0和1,从而实现运算处理和存储功能。CPU中搭载的数十亿个晶体管,以纳秒为单位不断进行开关(ON/OFF)切换,支撑着复杂的信息处理过程。

  通过改变工作区域可实现放大与开关的区分使用。在放大工作中,为了获得与输入信号成比例的输出,需使其在放大区工作。开关功能需要完全导通和关断,因此在饱和区和截止区工作。虽为同一器件,晶体管却能通过电路设计实现不同的功能,这种特性大大提高了其通用性。

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  在电子电路中发挥的作用

  在模拟电路中,将来自传感器的微小信号放大至可处理级别的信号。在将温度传感器输出的毫伏级(数mV)电压变化,放大至微控制器可读取的伏特级(数V)时,包括晶体管在内的放大电路需要在保持信号精度的前提下执行电平转换。结合滤波电路,可在消除噪声的同时提取目标频率成分。

  在数字电路中,它作为逻辑门的基本构成要素发挥作用。AND、OR、NOT等基本逻辑运算,是通过组合多个晶体管来实现的。通过将这些逻辑门进行多级连接,便可构成加法器、比较器、存储器单元等复杂功能模块。在微控制器和FPGA内部,无数晶体管与时钟信号同步工作,按照程序指令执行相应的处理。

  在电源回路中,承担着调节电压和电流的重要功用。在开关电源中,晶体管通过反复进行高频开关动作,将输入电压转换为目标输出电压。在线性电源中,发挥类似可变电阻的作用,能根据负载情况维持输出电压恒定。在LED驱动器和电机驱动器中,用来控制电流,为负载提供适当的电力。

  在接口电路中,用来在不同电压等级的电路之间进行信号中继。当3.3V微控制器需与5V传感器连接时,可利用由晶体管构成的电平转换电路进行电压转换。借助晶体管,可实现不同代别和规格的元器件相结合的电路设计。

  晶体管的基本结构和工作原理

  晶体管具有三个引脚,各自通过电流控制发挥不同作用。只要明白引脚间PN结的工作原理,就自然能理解放大和开关的机制了。

  三个引脚(发射极、基极、集电极)的作用

  双极晶体管由发射极、基极和集电极这三个引脚构成。发射极是提供(注入)载流子的引脚,集电极是收集载流子的引脚,而基极则是控制其流动的引脚。在NPN型晶体管中,当给基极施加正向电压时,基极电流便会流动,从而引发集电极电流。集电极电流可达基极电流的数十至数百倍,该比率称为“电流放大系数”。在PNP型晶体管中,载流子的类型相反,但其控制原理相同。

  当基极-发射极间电压超过一定值(硅晶体管约为0.6~0.7V)时,载流子便开始从发射极向基极注入。注入的大部分载流子会通过基区到达集电极,其余则作为基极电流流入外部电路。基区越薄,就有越多的载流子能够到达集电极,从而获得更高的电流放大系数。

  集电极与发射极之间连接电源电压,形成集电极电流的流通路径。当该电压足够高时,可实现在基极电流变化时集电极电流与其成比例变化的放大区工作状态。集电极-发射极间电压过低会进入饱和状态,此时即使增加基极电流,集电极电流也不会再增加。在开关动作中,通过饱和区实现导通状态,通过截止区实现关断状态。

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  PN结基础:正向偏置和反向偏置原理

  PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。P型区域富含空穴,而N型区域则富含电子。在交界面处,电子与空穴相互扩散并复合,从而形成不存在载流子的耗尽层。耗尽层起到控制电流流动的势垒的作用。

  正向偏置时,在P型侧施加正电压,在N型侧施加负电压。耗尽层宽度变窄,载流子更容易跨越结区移动。空穴从P型区扩散至N型区,电子从N型区扩散至P型区,从而形成电流流动。当电压超过某一特定值(硅晶体管约为0.6~0.7V)时,电流便会急剧上升。

  在反向偏置时,在P型侧施加负电压,在N型侧施加正电压。耗尽层宽度增加,载流子的迁移受阻。多数载流子不参与导电,仅能观测到少数载流子形成的微小漏电流。若反向电压过高,将引发雪崩击穿现象,若不限制电流,会导致器件损坏。

  晶体管通过将基极-发射极结正向偏置以注入载流子,将基极-集电极结反向偏置以收集载流子。将这两种结组合起来,便实现了基极电流控制集电极电流的机制。

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  晶体管的主要类型及特点

  晶体管主要分为通过电流控制的双极晶体管和通过电压控制的场效应晶体管两大类。在电路设计中,选用不同种类的晶体管会影响到电路的效率和性能,因此结合实际应用需求进行选择至关重要。

  双极晶体管(BJT)的基本工作原理和特点(NPN型与PNP型)

  双极晶体管是一种电子和空穴两种载流子共同参与电流形成的器件。其分为NPN型和PNP型两种,这两种的半导体层的排列顺序不同。NPN型以N型-P型-N型的顺序排列,PNP型则以P型-N型-P型的顺序排列。多数电路会采用NPN型晶体管。这是因为其电子迁移率高于空穴,有利于实现高速工作。

  在NPN型晶体管中,当给基极施加正电压时,电子将从发射极流向集电极。将电源正极连接至集电极侧,负极接发射极侧,通过向基极施加微小正向电流来控制集电极电流。在普通的小信号晶体管中,基极电流通常在数μA至mA范围内,而集电极电流则可控制在数mA到数百mA的范围。

  PNP型晶体管中载流子与电压的极性相反。当给基极施加负电压时,空穴将从发射极流向集电极。将NPN型和PNP型晶体管相结合,可构建推挽电路和互补电路,从而实现高效率的功率放大和双向开关功能。

  有效输入阻抗会因设计不同而发生显著变化。作为参考标准,输入阻抗应在数kΩ至数十kΩ范围内,且需提供基极电流。电流放大系数会因温度和工作点而波动,因此在电路设计中需采用负反馈或偏置电路来提高运行稳定性。这种晶体管具有高增益、噪声特性优异的特点,因此被广泛应用于微小信号放大和模拟电路中。

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  场效应晶体管(FET)的工作原理和特点(MOSFET与JFET)

  场效应晶体管是一种通过电压控制电流的器件。这种器件具有栅极、源极和漏极三个引脚,通过栅极电压可控制源极-漏极间的电流。由于栅极电流几乎不流动,因此输入阻抗较高,驱动电路的负担较小。栅极电压产生的电场会改变沟道的导电性。

  MOSFET具有金属-氧化物-半导体结构。栅极电极与半导体之间设有氧化膜,通过栅极电压在半导体表面形成沟道。MOSFET可分为N沟道与P沟道两种。N沟道MOSFET是给栅极施加正电压时导通;而P沟道MOSFET则是施加负电压时导通。在数字电路中,广泛采用N沟道与P沟道相结合的CMOS结构,通过互补工作方式实现低功耗设计——静态时以漏电流为主,动态时则以开关损耗为主导。(工作时以动态损耗为主,静态时则以漏电流为主导)

  JFET是一种利用PN结的耗尽层来控制沟道宽度的晶体管对栅极施加反向偏压时,耗尽层会扩展,从而使源极-漏极之间的电流受限。与MOSFET相比,其结构更简单,且具备优异的噪声特性,因此被广泛用于高频电路和模拟前端应用中。JFET基本上作为耗尽型器件工作,在栅极电压为零时即有电流通过。

  由于几乎无栅极电流流过,因此传感器电路和缓冲电路可在不增加信号源负担的情况下工作。MOSFET凭借高速开关和低导通电阻特性,被广泛应用于电源电路和电机驱动器领域;而JFET则因其低噪声特性,被用于音频电路和测量电路中。

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  不同用途的选型要点

  晶体管选型时,首要工作是梳理电路设计目标和性能要求。在放大电路中,信号带宽、增益和噪声特性是选型标准;而在开关电路中,导通电阻、开关速度和耐压则成为关键考量因素。在电源电路中,容许损耗、热阻以及封装形状是决定设计的重要因素。

  双极晶体管因其在中低频放大电路和需要电流驱动的电路中的出色表现而备受青睐。由于电流放大系数高,能够通过较小基极电流控制较大的集电极电流,因此非常适用于传感器信号的前级放大和模拟运算电路。

  MOSFET适用于需要高速开关和大电流控制的应用。Vth仅作为“导通开始的参考基准”使用。是否可以驱动需根据RDS(on)在规定的VGS(例如4.5V/10V)条件下的表现,并结合所需电流的损耗估算来判定。在开关电源中,采用低导通电阻的MOSFET可降低导通损耗,提高效率。

  选型时需确认技术规格书中的最大额定值和推荐工作条件。集电极损耗和漏极损耗需从实际工作条件下产生的功率损耗和散热设计两方面综合评估。在环境温度较高的情况下,需进行降额处理。

  通过简易电路了解晶体管的工作原理

  仅凭理论难以理解的晶体管工作原理,通过实际电路可加深理解。下面以开关电路和放大电路为例,来探讨引脚间电压与电流的关系。

  基本开关电路(NPN型)

  NPN晶体管组成的开关电路是使用微控制器控制LED、继电器等负载时的基本配置。在电源电压与集电极之间接入负载,并将发射极接地。通过微控制器的输出端口经基极电阻向基极输入信号,即可控制流向负载的电流的通断。

  基极电阻的阻值应设置为能够确保流过使晶体管切实饱和所需的基极电流的大小。在饱和状态下,集电极-发射极间的电压降会降至数十mV至数百mV左右,从而使晶体管损耗达到最小。

  当负载含有电感分量时,使晶体管关断的瞬间会产生反向电动势。当该电压超过晶体管的耐压极限时,将导致器件损毁,故需在负载两端并联续流二极管。将二极管的阴极连接至电源侧,阳极连接至集电极侧,由二极管吸收反向电动势产生的电流,从而实现对晶体管的保护。

  在该电路结构中,当微控制器输出高电平时,晶体管导通,电流流经负载。输出低电平时,晶体管关断,切断流向负载的电流。虽然结构简单,却可以通过简单的电路来理解通过数字信号控制功率的基本工作原理。

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  基本开关电路(N沟道MOSFET)

  N沟道MOSFET构成的开关电路,适用于需要大电流负载控制和高速开关的用途。在电源电压和漏极之间连接负载,并将源极接地。通过微控制器的输出端口向栅极输入信号,来控制流向负载的电流的通断。

  MOSFET通过栅极-源极间电压进行控制,几乎不流过栅极电流。因此,微控制器有时可直接驱动栅极。

  当栅极处于悬空状态时,可能会因静电或周围电场的影响而意外导通。为防止这种情况,可在栅极与源极之间连接下拉电阻,确保微控制器无信号输出时栅极电压保持为零。

  控制电感负载时,与NPN晶体管同样需要配置续流二极管。通过在负载两端并联连接二极管,可使其吸收反向电动势产生的电流。在需要高频开关和高速响应的应用中,选用反向恢复特性优异的肖特基二极管可抑制瞬态损耗,从而降低开关器件的应力。

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  基本放大电路(共发射极电路)

  共发射极电路是一种采用了双极晶体管的基础型放大电路。该电路以发射极为基准点,给基极施加输入信号,从集电极提取放大后的信号。在电源电压和集电极之间连接集电极电阻,在发射极和接地之间连接发射极电阻,并在基极设置由分压电阻构成的偏置电路。

  偏置电路的作用是在无输入信号状态下,将晶体管设定至合适的工作点。将工作点设定在电源电压的中点附近,可使输入信号在正负双向都能获得最大不失真可放大范围。偏置电路的具体设计,将在后续文章中详细介绍。

  发射极电阻可吸收由温度变化和个体差异导致的晶体管特性波动,从而使工作稳定。当发射极电流增加时,发射极电阻上的电压降增大,基极-发射极间的电压相对降低。通过这种负反馈作用,集电极电流会自动得到调节。当输入信号引起基极电流变化时,集电极电流会相应改变,由于集电极电阻上的压降会随之变化,因此输出与输入相位相反。这正是共发射极相位反转和高电压增益的要点。

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  晶体管电路设计中应最先掌握的参数

  在实际设计电路时,需要正确解读技术规格书的特性值并估算工作条件。掌握了输入输出特性和热设计基础,即可实现稳定工作。

  输入特性基础(基极-发射极电压、阈值电压、输入阻抗)

  双极晶体管的基极-发射极间电压,是晶体管开始导通的电压。硅晶体管的导通电压约为0.6~0.7V,超过该电压时基极电流开始流动。温度上升时,该电压会以约2mV/℃的比例下降。−2mV/℃是基于“保持电流恒定时”的经验法则,在实际设计中同时考虑温度依赖性和电流依赖性更为稳妥。在设计偏置电路时,需充分考虑其温度特性来设定工作点。

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  输入阻抗是指从信号源端看到的晶体管输入端的电阻分量。小信号输入电阻随工作点变化,且外置偏置电阻是并联的,因此实际输入阻抗可根据设计在较大范围内变化。作为参考标准,双极晶体管因存在基极电流,其输入阻抗通常在数kΩ至数十kΩ范围。当信号源的输出阻抗较高时,基极电流会导致信号电压下降,这可能会使放大系数偏离设计值。

  MOSFET的输入阻抗,由于栅极氧化膜起到绝缘体的作用,因此在直流情况下实际上为无限大。然而,栅极-源极间存在电容,在高频信号或高速开关情况下,这种电容会进行充放电,从而导致阻抗降低。在高速驱动栅极容量较大的MOSFET时,需要降低驱动电路的输出阻抗。

  输出特性基础(集电极电流、输出电压、电压降)

  集电极电流是晶体管控制的主电流。技术规格书中记载了连续工作状态下可承载的最大集电极电流。在实际电路中,通常以最大额定值的50%~80%作为设计上限,以预留应对温升和年久劣化的安全裕度。脉冲工作模式下可瞬时通过较大电流,但需确保平均功率不超过容许损耗。

  作为开关导通时,集电极-发射极间的饱和电压是需要考虑的问题。从晶体管处于饱和状态时的电压降来看,饱和状态电压可降至数十mV至数百mV范围。通过在该状态下进行开关工作,能够将晶体管中的损耗降至最低。在放大区(Active Region)工作时,集电极-发射极间电压可从数伏变化至接近电源电压,在该范围内均可进行放大工作。

  MOSFET的导通电阻是指漏极-源极处于导通状态时的电阻值。电阻值范围为数mΩ至数百mΩ,该值越小,导通损耗越低。导通电阻会随温度升高而增加,因此在连续工作状态下需以温升后的阻值来计算损耗。在大电流电路中,导通电阻导致的功率损耗是发热的主要原因。

  输出电压范围由负载电阻和晶体管的工作状态决定。集电极电阻越大,电压变化越显著,但会限制集电极电流。在开关电路中,需确保导通状态下电压降较小,关断状态下电压能上升至电源电压。在放大电路中,需通过调整工作点和集电极电阻,确保输出信号不会因输入信号幅度而进入饱和区和截止区。

  功耗和热设计基础(发热与温度管理)

  晶体管的功耗可通过引脚间电压与电流的乘积计算得出。对于双极晶体管而言,集电极-发射极间电压与集电极电流的乘积即为集电极损耗。在MOSFET中,导通状态下会产生与漏极电流平方与导通电阻的乘积相对应的损耗;而在开关过程中则叠加了电压与电流同时存在期间产生的损耗。在高速开关时,开关损耗可能会成为主要损耗。

  容许损耗是为了确保晶体管结温不超过最大额定值而设定的。技术规格书中列出了以壳体温度或环境温度为基准的容许损耗值。当环境温度升高时,容许损耗呈线性减少趋势。

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  在散热设计中,需考虑到晶体管的封装形式和安装方式。TO-220和TO-247等大型封装可安装散热器,适用于大功率工作。在表面贴装型封装中,利用电路板的散热过孔和铜箔图案作为散热路径。在连续工作的电路中,通过计算最恶劣条件下的温升,将结温控制在额定值80%左右的设计方式,可有效确保可靠性。

  晶体管的主要用途及具体示例

  晶体管已被广泛应用于数字电路、模拟电路和电力电子等领域,各领域对其功能要求各不相同。了解其在不同应用场景下的使用区分,可使设计阶段的元器件选型更顺利。

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  在数字电路中的应用(开关、逻辑门)

  在数字电路中,晶体管通过高速切换开和关两种状态来实现逻辑运算与信息处理。在CMOS逻辑电路中,通过采用N沟道MOSFET与P沟道MOSFET配对使用、使其中一方导通时另一方关断的结构来构建逻辑门。CMOS以反相器为基本单元,通过晶体管的串联/并联连接来构建NAND、NOR、XOR等逻辑门电路。在微控制器和FPGA内部,根据产品代别和用途,集成了数百万至数百亿规模的晶体管,能够并行执行复杂的逻辑运算。

  在模拟电路中的应用(微小信号放大)

  在传感器电路中,晶体管负责将微小信号放大并传输至后级电路。温度传感器和应变片输出的数mV至数十mV的信号,将被放大至微控制器的AD转换器可读取的电压范围。在音频放大器中,前置放大器级通常进行数十至数百倍(某些用途和多级结构可达千倍级)的电压放大,而功率放大器级则负责电流放大,为扬声器提供适合的电力。差分放大电路通过将2个晶体管配对使用,在抵消温度变化和电源电压波动影响的同时,检测并放大微小的电压差。

  在电力电子领域中的应用

  在开关电源中,通过晶体管高频开关动作实现电压转换。利用MOSFET的低导通电阻和高速开关特性,通过合理的设计可实现高达90%以上的效率。在电机驱动器中,通过PWM信号控制晶体管的开/关,通过调整平均电流来控制速度。在LED驱动电路中,通过由晶体管和检测电阻组成的恒流电路,实现稳定的发光效果。在逆变电路中,可将直流电转换为交流电,已被广泛应用于光伏发电和不间断电源装置中。功率晶体管在处理高压大电流时,能够在确保电流容量和耐压能力的同时实现高效开关。

  总结:晶体管基础及进阶方向

  本文梳理了晶体管的基本工作原理、种类及功能。双极晶体管属于电流控制器件,而MOSFET则是电压控制器件。通过理解这一基本原理,并掌握根据应用场景进行选型与电路设计的思路,就能在实际的设计实践中做出合理的判断。关于各种晶体管的具体工作特性、实际电路设计及评估方法,通过深入学习双极晶体管(BJT)基础与设计、MOSFET基础与开关电路设计、双脉冲测试及晶体管失效机制等知识,可进一步提升实际设计实践中的判断能力。

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2026-09-09 13:17 阅读量:394
ROHM制TOLL封装:最大限度发挥新一代功率器件性能的贴装方案
  概要  近年来,在AI服务器、数据中心电源、光伏(PV)逆变器、电力储能系统(ESS)等领域,除了大功率化之外,设备小型化和高功率密度化需求也与日俱增。传统大功率应用中主流的TO-247、TO-220等通孔封装,以及TO-263等表面贴装封装,在寄生电感、散热性能以及安装空间方面都存在设计瓶颈。  本应用笔记将介绍ROHM的TOLL(TO无引线)封装——一种可解决上述课题的创新型表面贴装(SMD)方案,并阐述其技术优势。文中将详细说明TOLL封装所带来的优势:节省空间(薄型化、占板面积缩减)、优异的散热性能、通过开尔文源极(4端子)结构降低开关损耗,以及符合JEDEC标准的高通用性。同时,还介绍了能够将 ROHM最新SiC MOSFET、12~150V耐压SiMOSFET、超级结MOSFET等功率器件的性能发挥到极致的电路板设计方法。  目录  · 符合JEDEC MO-299标准的外形尺寸  · 兼顾小型薄型化与大功率化  · 优异的散热性能  · 4端子(开尔文源极)结构大幅降低开关损耗  · 提高安装可靠性并降低检测成本  · 通过优化电路板设计实现散热最大化  · 结语  · 参考资料  符合JEDEC MO-299标准的外形尺寸  TOLL封装是一种符合JEDEC制定外形标准MO-299的表面贴装型封装。因此,便于利用现有贴装设备,具备生产线操作上的高通用性。  另一方面,在基板设计(焊盘布局)方面,为了最大限度发挥所搭载的新一代功率器件的特性,对端子形状进行了优化。JEDEC MO299中规定,多引脚侧(8引脚侧)的相邻引脚根部连接结构为“可选(OPTIONAL)”。因此,ROHM根据器件特性,为各产品采用最合适的形状。例如,在SiC MOSFET和Si MOSFET等TOLL封装中,采用了8引脚侧根部相连的形状;并且,带开尔文源极的4端子器件(漏极、栅极、源极、开尔文源极)与3端子器件(漏极、栅极、源极)的连接方式也有所不同(见 Figure 1)。  此外,ROHM的GaN HEMT产品采用TOLL-8N封装,虽然外形尺寸符合MO-299标准,但引脚配置和焊盘形状具有独特性,因此在基板设计时,请务必使用数据手册中记载的TOLL-8N专用焊盘布局(Figure 2)  如此,虽然在外形尺寸上实现了标准化,但安装焊盘图案则针对各器件进行了优化。因此,基板设计时不应沿用通用的焊盘布局,而必须使用各产品数据手册中记载的专用推荐焊盘布局。这样才能充分发挥各器件的真正性能,并确保高可靠性。  特别需要注意的是,开尔文源极(数据手册中有时表述为“驱动源极”)端子的连接方式对开关损耗影响很大。此外,以下做法是严格禁止的:将开尔文源极端子与功率源极端子直接连接;使开尔文源极端子保持开路,仅使用功率源极端子来驱动栅极;以及将开尔文源极端子与功率源极端子反向连接。这些不当连接可能导致意想不到的发热、误动作甚至器件故障  兼顾小型薄型化与大功率化  TOLL封装最大的特点在于节省空间。封装外形尺寸为9.9mm × 11.68mm × 2.3 mm,高度较以往同等级封装(TO-263-7LA)降低了约一半(从4.5mm降至2.3 mm,降低约49%)(见Figure 3)。此外,在实际基板上所占用的安装面积(焊盘布局)也削减了25%。传统TO-263-7LA的焊盘面积为179.3mm²(11.0mm × 16.3mm),而TOLL封装的焊盘面积仅为134.33mm²(10.1mm × 13.3mm)(见Figure 4)。由此,即使在被称为“披萨盒型”的薄型电源用图腾柱PFC电路等厚度需控制在4mm以下的严格设计约束下,也能带来极高的安装自由度。
2026-09-03 13:10 阅读量:448
ROHM丨为什么可以通过感应电压知道转子的位置?
  本文探讨的问题是“为什么可以通过感应电压知道转子的位置?”具体而言,就是为什么通过观察无刷电机绕组中产生的感应电压,可以估测出转子的位置?感应电压和转子位置之间的关系是驱动无刷电机时涉及到的重要知识,下面将就此进行说明。  ●问题的内容  本次的问题源于类似下面的经历。  这是我们在为无刷电机选择电机驱动器时遇到的困惑:有些电机驱动器的规格书上写有“无传感器控制”,也就是说不需要用传感器来确定转子的位置。我们一直以为驱动无刷电机需要转子位置传感器,但这类电机驱动器检测的是感应电压,而不是位置传感器的信息。  感应电压是指手动旋转无刷电机的曲轴时,绕组端子上产生的电压。但为什么仅通过检测(?)该感应电压就能知道转子的位置呢?  实际上,有些无刷电机的电机驱动器配备了无传感器控制功能,无需使用霍尔元件等位置传感器即可使电机旋转。这种无传感器控制有多种方式,其中如本次问题所示,通过感应电压的波形,特别是检测出过零点来估测转子位置的方式被广泛使用。  那么,感应电压与转子位置之间有什么关系呢?这里我们将从感应电压的产生原理入手,解释两者之间的关系。  无刷电机的感应电压  首先,感应电压是由于电磁感应现象而在线圈(绕组)两端产生的电势差。这里的电磁感应是指当通过线圈中的磁通量发生变化时,会在线圈中产生排斥这种变化(保持原磁通量)的磁场方向上,产生电压的现象。例如,如下图(中)所示,当磁体(N极)靠近线圈时,线圈内向右的磁通量会增加。于是,线圈试图产生一个向左的磁场来抑制这种增加。产生左向磁场的电流方向遵循右手定则(如图所示),并在线圈两端产生与该方向对应极性的电压。相反,当磁体远离线圈时,磁通量减少,所以会产生增加磁通量的电流和电压(下图中的右图)。  该线圈两端产生的电压大小与磁通量变化的大小成正比。感应电压(Vbemf)可以用磁通量的微分来表示(如下式)。公式中线圈匝数n表示感应电压的大小与匝数成正比。如果N极为正极,且电压的参照物为图中线圈的左侧端子,则公式中的磁通量Φ为负值。  如果将这种感应电压的产生现象转化为电机的工作,就会如下图所示。下图是由永磁体组成的转子在定子内部旋转时,穿过定子的磁通量变化示意图。  图中标出了来自永磁体N极的磁通量进入S极的路径。在下图中“1”的转子位置处,线圈A的齿槽(见下图中缠有导线的磁性体部分)与S极相对,磁通沿S极方向穿过。当转子从那里继续左转时(图中的“2”),齿槽A的前端部分开始与N极相对,与S极相对的面积减少,所以穿过线圈的磁通量减少。随着转子进一步旋转,如图中的“3”所示,穿过线圈的磁通量变为零(尽管图中未显示,但随着转子进一步旋转,从N极出来的磁通量会不断增加)。  可见,对于电机来说,与其说是永磁体靠近或远离,不如说是与线圈(齿槽)相对的磁体的磁极和磁通密度随着转子旋转而不断变化,从而产生感应电压。  以上即为无刷电机感应电压产生原理的说明。  转子位置和感应电压波形  根据上述感应电压的产生原理,我们来探讨转子位置与感应电压波形之间的关系。首先,让我们解释一下什么是转子位置。  我们说要知道转子的位置,表示位置需要一个参照物。例如地球上的经度或纬度位置是以北极点或天文台为参照物,或者距离100米是以说这句话的人或写有这句话的标志为参照物。那么,转子位置的参照物是什么呢?要理解这一点,我们需要知道为什么要知道转子的位置。  在驱动无刷电机时,之所以要知道转子的位置,简单来说是为了利用该信息来决定在何处产生绕组磁场。无刷电机利用转子的永磁体和绕组磁场之间的引力/斥力来旋转,为了获得这种力,必须知道应该在永磁体的哪个位置产生绕组磁场。因此,转子位置的参照物是绕组。具体来说,转子位置表示的是转子的永磁体与定子绕组之间的相对位置(角度)。  例如,如下图所示,通过将转子的位置理解为“N极相对于U相绕组呈〇〇度的位置”,可以决定在哪个位置产生绕组磁场使转子朝所需方向转动。  (这里的N极指的是N极部分的中心位置。转子位置的表示方式有两种:一种是以磁极的中心位置为参照物,另一种是以磁极切换点(磁极之间)为参照物。后一种情况下,表达为“从S极变为N极的位置相对于U相绕组呈〇〇度”。另外,“相对于U相绕组”是指缠有U相绕组的齿槽的中心位置。)  既然我们已经知道转子位置的参照物是绕组,接下来就要考虑转子位置和感应电压波形之间的关系。  首先在考虑感应电压波形之前要先确定磁通量(Φ),因此我们假设转子的励磁波形(永磁体的磁通分布)是下图所示的波形。这种波形通常被称为正弦波励磁波形,励磁后的磁通密度呈正弦波分布。  下图为当转子相对于绕组旋转一周时,穿过绕组(齿槽)的磁通量变化情况,以及感应电压的变化情况(再次强调,转子位置的参照物是绕组(这里是与定子的位置关系))。为了更直观地看到穿过齿槽的磁通量,图中还给出了转子处于位置1到5时穿过齿槽的磁通量。  当转子处于位置“1”时,齿槽同时面向磁体的N极和S极,因此几乎没有磁通量穿过齿槽,齿槽的磁通量为零。当转子左转到位置“2”时,面向齿槽的磁体N极面积逐渐增大。由于磁体的励磁波形是正弦波,此时齿槽中的磁通量呈正弦波增长,并在位置“2”达到最大,到位置“3”时又变为零。接着,转子继续左转到位置“4”,磁通量(朝向S极)达到最大,到位置“5”时又变为零(回到位置“1”)。  通过转子的这种运动,产生了如图所示的感应电压(感应电压是齿槽中的磁通量变化量(微分)的负值)。  从以上说明可以看出,转子的位置、齿槽中的磁通量、转子旋转时磁通量的变化以及由此产生的感应电压之间的关系是固定不变的。这就是为什么可以通过感应电压知道转子位置(相对于绕组的位置)的原因。  基于这种关系,例如,如果检测到感应电压在由负变正的过零点,就可以知道此时转子相对于绕组(齿槽)的位置是处于位置“2”。同样,在由正转负的过零点时,处于位置“4”。通过这种方式确定转子位置后,可以决定在哪个方向产生绕组磁场。  理论上,也可以推测出其他转子位置。但是,需要克服一些问题,例如感应电压的大小会随着电机转速而变化、永磁体的磁通分布变化会导致感应电压波形变化、以及检测感应电压大小的方法等。另外,使用比较器电路可以比较容易地检测到过零点。  作为转子位置的参考,下图展示了三相星形连接时U相、V相、W相的感应电压及在过零点时的转子位置(转子左转时)。  以上就是对本次疑问“为什么可以通过感应电压知道转子的位置?”的解答。  本文的关键要点  ・无刷电机的感应电压是由穿过绕组(齿槽)的磁通量的变化产生的。  ・转子位置的参照物是绕组(齿槽)。  ・穿过绕组(齿槽)的磁通量由转子的位置决定。  ・通过观察感应电压波形,可以知道转子相对于绕组的位置。
2026-09-02 11:01 阅读量:455
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