ROHM丨晶体管详解:结构、分类及工作原理基础

发布时间:2026-08-04 14:45
作者:AMEYA360
来源:ROHM
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  晶体管是一种用于控制电流、放大信号并进行开关(ON/OFF)切换的半导体器件。该器件兼具放大和开关双重功能,在模拟与数字电路设计中均发挥着核心作用。在音响设备中,它会放大微小的音频信号;而在智能手机的处理器中,则根据迭代和用途搭载数千万至数百亿个晶体管,支撑起高速逻辑处理。本文将介绍晶体管的工作原理、主要种类及其在具体电路中的使用方法。

  晶体管的基本原理和作用

  要理解晶体管的工作原理,可将器件本身的功能与其在电路中的作用分开来分析,这样更易于梳理清楚。

  放大和开关原理

  晶体管是一种利用半导体的性质,将微小的输入信号转换为较大输出信号的电子器件。在硅或锗等半导体材料中掺入杂质,可形成能够控制电流流通难易度的区域。微小的电压和电流变化,会作为显著的电流变化被输出。通过电路设计,晶体管可以发挥放大器或开关的作用。

  在放大工作中,施加于输入端的小信号将在输出端被放大数倍至数百倍。在音频放大器中,当将麦克风的微小语音信号放大至扬声器驱动级别时,晶体管会从电源中提取能量并叠加至输出端。输入信号的波形会被忠实保留,仅振幅被放大,因而能够无损地传递信息。

  在开关工作中,可高速切换电流导通状态(ON)和关断状态(OFF)。在数字电路中,这两种状态对应逻辑0和1,从而实现运算处理和存储功能。CPU中搭载的数十亿个晶体管,以纳秒为单位不断进行开关(ON/OFF)切换,支撑着复杂的信息处理过程。

  通过改变工作区域可实现放大与开关的区分使用。在放大工作中,为了获得与输入信号成比例的输出,需使其在放大区工作。开关功能需要完全导通和关断,因此在饱和区和截止区工作。虽为同一器件,晶体管却能通过电路设计实现不同的功能,这种特性大大提高了其通用性。

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  在电子电路中发挥的作用

  在模拟电路中,将来自传感器的微小信号放大至可处理级别的信号。在将温度传感器输出的毫伏级(数mV)电压变化,放大至微控制器可读取的伏特级(数V)时,包括晶体管在内的放大电路需要在保持信号精度的前提下执行电平转换。结合滤波电路,可在消除噪声的同时提取目标频率成分。

  在数字电路中,它作为逻辑门的基本构成要素发挥作用。AND、OR、NOT等基本逻辑运算,是通过组合多个晶体管来实现的。通过将这些逻辑门进行多级连接,便可构成加法器、比较器、存储器单元等复杂功能模块。在微控制器和FPGA内部,无数晶体管与时钟信号同步工作,按照程序指令执行相应的处理。

  在电源回路中,承担着调节电压和电流的重要功用。在开关电源中,晶体管通过反复进行高频开关动作,将输入电压转换为目标输出电压。在线性电源中,发挥类似可变电阻的作用,能根据负载情况维持输出电压恒定。在LED驱动器和电机驱动器中,用来控制电流,为负载提供适当的电力。

  在接口电路中,用来在不同电压等级的电路之间进行信号中继。当3.3V微控制器需与5V传感器连接时,可利用由晶体管构成的电平转换电路进行电压转换。借助晶体管,可实现不同代别和规格的元器件相结合的电路设计。

  晶体管的基本结构和工作原理

  晶体管具有三个引脚,各自通过电流控制发挥不同作用。只要明白引脚间PN结的工作原理,就自然能理解放大和开关的机制了。

  三个引脚(发射极、基极、集电极)的作用

  双极晶体管由发射极、基极和集电极这三个引脚构成。发射极是提供(注入)载流子的引脚,集电极是收集载流子的引脚,而基极则是控制其流动的引脚。在NPN型晶体管中,当给基极施加正向电压时,基极电流便会流动,从而引发集电极电流。集电极电流可达基极电流的数十至数百倍,该比率称为“电流放大系数”。在PNP型晶体管中,载流子的类型相反,但其控制原理相同。

  当基极-发射极间电压超过一定值(硅晶体管约为0.6~0.7V)时,载流子便开始从发射极向基极注入。注入的大部分载流子会通过基区到达集电极,其余则作为基极电流流入外部电路。基区越薄,就有越多的载流子能够到达集电极,从而获得更高的电流放大系数。

  集电极与发射极之间连接电源电压,形成集电极电流的流通路径。当该电压足够高时,可实现在基极电流变化时集电极电流与其成比例变化的放大区工作状态。集电极-发射极间电压过低会进入饱和状态,此时即使增加基极电流,集电极电流也不会再增加。在开关动作中,通过饱和区实现导通状态,通过截止区实现关断状态。

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  PN结基础:正向偏置和反向偏置原理

  PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。P型区域富含空穴,而N型区域则富含电子。在交界面处,电子与空穴相互扩散并复合,从而形成不存在载流子的耗尽层。耗尽层起到控制电流流动的势垒的作用。

  正向偏置时,在P型侧施加正电压,在N型侧施加负电压。耗尽层宽度变窄,载流子更容易跨越结区移动。空穴从P型区扩散至N型区,电子从N型区扩散至P型区,从而形成电流流动。当电压超过某一特定值(硅晶体管约为0.6~0.7V)时,电流便会急剧上升。

  在反向偏置时,在P型侧施加负电压,在N型侧施加正电压。耗尽层宽度增加,载流子的迁移受阻。多数载流子不参与导电,仅能观测到少数载流子形成的微小漏电流。若反向电压过高,将引发雪崩击穿现象,若不限制电流,会导致器件损坏。

  晶体管通过将基极-发射极结正向偏置以注入载流子,将基极-集电极结反向偏置以收集载流子。将这两种结组合起来,便实现了基极电流控制集电极电流的机制。

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  晶体管的主要类型及特点

  晶体管主要分为通过电流控制的双极晶体管和通过电压控制的场效应晶体管两大类。在电路设计中,选用不同种类的晶体管会影响到电路的效率和性能,因此结合实际应用需求进行选择至关重要。

  双极晶体管(BJT)的基本工作原理和特点(NPN型与PNP型)

  双极晶体管是一种电子和空穴两种载流子共同参与电流形成的器件。其分为NPN型和PNP型两种,这两种的半导体层的排列顺序不同。NPN型以N型-P型-N型的顺序排列,PNP型则以P型-N型-P型的顺序排列。多数电路会采用NPN型晶体管。这是因为其电子迁移率高于空穴,有利于实现高速工作。

  在NPN型晶体管中,当给基极施加正电压时,电子将从发射极流向集电极。将电源正极连接至集电极侧,负极接发射极侧,通过向基极施加微小正向电流来控制集电极电流。在普通的小信号晶体管中,基极电流通常在数μA至mA范围内,而集电极电流则可控制在数mA到数百mA的范围。

  PNP型晶体管中载流子与电压的极性相反。当给基极施加负电压时,空穴将从发射极流向集电极。将NPN型和PNP型晶体管相结合,可构建推挽电路和互补电路,从而实现高效率的功率放大和双向开关功能。

  有效输入阻抗会因设计不同而发生显著变化。作为参考标准,输入阻抗应在数kΩ至数十kΩ范围内,且需提供基极电流。电流放大系数会因温度和工作点而波动,因此在电路设计中需采用负反馈或偏置电路来提高运行稳定性。这种晶体管具有高增益、噪声特性优异的特点,因此被广泛应用于微小信号放大和模拟电路中。

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  场效应晶体管(FET)的工作原理和特点(MOSFET与JFET)

  场效应晶体管是一种通过电压控制电流的器件。这种器件具有栅极、源极和漏极三个引脚,通过栅极电压可控制源极-漏极间的电流。由于栅极电流几乎不流动,因此输入阻抗较高,驱动电路的负担较小。栅极电压产生的电场会改变沟道的导电性。

  MOSFET具有金属-氧化物-半导体结构。栅极电极与半导体之间设有氧化膜,通过栅极电压在半导体表面形成沟道。MOSFET可分为N沟道与P沟道两种。N沟道MOSFET是给栅极施加正电压时导通;而P沟道MOSFET则是施加负电压时导通。在数字电路中,广泛采用N沟道与P沟道相结合的CMOS结构,通过互补工作方式实现低功耗设计——静态时以漏电流为主,动态时则以开关损耗为主导。(工作时以动态损耗为主,静态时则以漏电流为主导)

  JFET是一种利用PN结的耗尽层来控制沟道宽度的晶体管对栅极施加反向偏压时,耗尽层会扩展,从而使源极-漏极之间的电流受限。与MOSFET相比,其结构更简单,且具备优异的噪声特性,因此被广泛用于高频电路和模拟前端应用中。JFET基本上作为耗尽型器件工作,在栅极电压为零时即有电流通过。

  由于几乎无栅极电流流过,因此传感器电路和缓冲电路可在不增加信号源负担的情况下工作。MOSFET凭借高速开关和低导通电阻特性,被广泛应用于电源电路和电机驱动器领域;而JFET则因其低噪声特性,被用于音频电路和测量电路中。

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  不同用途的选型要点

  晶体管选型时,首要工作是梳理电路设计目标和性能要求。在放大电路中,信号带宽、增益和噪声特性是选型标准;而在开关电路中,导通电阻、开关速度和耐压则成为关键考量因素。在电源电路中,容许损耗、热阻以及封装形状是决定设计的重要因素。

  双极晶体管因其在中低频放大电路和需要电流驱动的电路中的出色表现而备受青睐。由于电流放大系数高,能够通过较小基极电流控制较大的集电极电流,因此非常适用于传感器信号的前级放大和模拟运算电路。

  MOSFET适用于需要高速开关和大电流控制的应用。Vth仅作为“导通开始的参考基准”使用。是否可以驱动需根据RDS(on)在规定的VGS(例如4.5V/10V)条件下的表现,并结合所需电流的损耗估算来判定。在开关电源中,采用低导通电阻的MOSFET可降低导通损耗,提高效率。

  选型时需确认技术规格书中的最大额定值和推荐工作条件。集电极损耗和漏极损耗需从实际工作条件下产生的功率损耗和散热设计两方面综合评估。在环境温度较高的情况下,需进行降额处理。

  通过简易电路了解晶体管的工作原理

  仅凭理论难以理解的晶体管工作原理,通过实际电路可加深理解。下面以开关电路和放大电路为例,来探讨引脚间电压与电流的关系。

  基本开关电路(NPN型)

  NPN晶体管组成的开关电路是使用微控制器控制LED、继电器等负载时的基本配置。在电源电压与集电极之间接入负载,并将发射极接地。通过微控制器的输出端口经基极电阻向基极输入信号,即可控制流向负载的电流的通断。

  基极电阻的阻值应设置为能够确保流过使晶体管切实饱和所需的基极电流的大小。在饱和状态下,集电极-发射极间的电压降会降至数十mV至数百mV左右,从而使晶体管损耗达到最小。

  当负载含有电感分量时,使晶体管关断的瞬间会产生反向电动势。当该电压超过晶体管的耐压极限时,将导致器件损毁,故需在负载两端并联续流二极管。将二极管的阴极连接至电源侧,阳极连接至集电极侧,由二极管吸收反向电动势产生的电流,从而实现对晶体管的保护。

  在该电路结构中,当微控制器输出高电平时,晶体管导通,电流流经负载。输出低电平时,晶体管关断,切断流向负载的电流。虽然结构简单,却可以通过简单的电路来理解通过数字信号控制功率的基本工作原理。

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  基本开关电路(N沟道MOSFET)

  N沟道MOSFET构成的开关电路,适用于需要大电流负载控制和高速开关的用途。在电源电压和漏极之间连接负载,并将源极接地。通过微控制器的输出端口向栅极输入信号,来控制流向负载的电流的通断。

  MOSFET通过栅极-源极间电压进行控制,几乎不流过栅极电流。因此,微控制器有时可直接驱动栅极。

  当栅极处于悬空状态时,可能会因静电或周围电场的影响而意外导通。为防止这种情况,可在栅极与源极之间连接下拉电阻,确保微控制器无信号输出时栅极电压保持为零。

  控制电感负载时,与NPN晶体管同样需要配置续流二极管。通过在负载两端并联连接二极管,可使其吸收反向电动势产生的电流。在需要高频开关和高速响应的应用中,选用反向恢复特性优异的肖特基二极管可抑制瞬态损耗,从而降低开关器件的应力。

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  基本放大电路(共发射极电路)

  共发射极电路是一种采用了双极晶体管的基础型放大电路。该电路以发射极为基准点,给基极施加输入信号,从集电极提取放大后的信号。在电源电压和集电极之间连接集电极电阻,在发射极和接地之间连接发射极电阻,并在基极设置由分压电阻构成的偏置电路。

  偏置电路的作用是在无输入信号状态下,将晶体管设定至合适的工作点。将工作点设定在电源电压的中点附近,可使输入信号在正负双向都能获得最大不失真可放大范围。偏置电路的具体设计,将在后续文章中详细介绍。

  发射极电阻可吸收由温度变化和个体差异导致的晶体管特性波动,从而使工作稳定。当发射极电流增加时,发射极电阻上的电压降增大,基极-发射极间的电压相对降低。通过这种负反馈作用,集电极电流会自动得到调节。当输入信号引起基极电流变化时,集电极电流会相应改变,由于集电极电阻上的压降会随之变化,因此输出与输入相位相反。这正是共发射极相位反转和高电压增益的要点。

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  晶体管电路设计中应最先掌握的参数

  在实际设计电路时,需要正确解读技术规格书的特性值并估算工作条件。掌握了输入输出特性和热设计基础,即可实现稳定工作。

  输入特性基础(基极-发射极电压、阈值电压、输入阻抗)

  双极晶体管的基极-发射极间电压,是晶体管开始导通的电压。硅晶体管的导通电压约为0.6~0.7V,超过该电压时基极电流开始流动。温度上升时,该电压会以约2mV/℃的比例下降。−2mV/℃是基于“保持电流恒定时”的经验法则,在实际设计中同时考虑温度依赖性和电流依赖性更为稳妥。在设计偏置电路时,需充分考虑其温度特性来设定工作点。

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  输入阻抗是指从信号源端看到的晶体管输入端的电阻分量。小信号输入电阻随工作点变化,且外置偏置电阻是并联的,因此实际输入阻抗可根据设计在较大范围内变化。作为参考标准,双极晶体管因存在基极电流,其输入阻抗通常在数kΩ至数十kΩ范围。当信号源的输出阻抗较高时,基极电流会导致信号电压下降,这可能会使放大系数偏离设计值。

  MOSFET的输入阻抗,由于栅极氧化膜起到绝缘体的作用,因此在直流情况下实际上为无限大。然而,栅极-源极间存在电容,在高频信号或高速开关情况下,这种电容会进行充放电,从而导致阻抗降低。在高速驱动栅极容量较大的MOSFET时,需要降低驱动电路的输出阻抗。

  输出特性基础(集电极电流、输出电压、电压降)

  集电极电流是晶体管控制的主电流。技术规格书中记载了连续工作状态下可承载的最大集电极电流。在实际电路中,通常以最大额定值的50%~80%作为设计上限,以预留应对温升和年久劣化的安全裕度。脉冲工作模式下可瞬时通过较大电流,但需确保平均功率不超过容许损耗。

  作为开关导通时,集电极-发射极间的饱和电压是需要考虑的问题。从晶体管处于饱和状态时的电压降来看,饱和状态电压可降至数十mV至数百mV范围。通过在该状态下进行开关工作,能够将晶体管中的损耗降至最低。在放大区(Active Region)工作时,集电极-发射极间电压可从数伏变化至接近电源电压,在该范围内均可进行放大工作。

  MOSFET的导通电阻是指漏极-源极处于导通状态时的电阻值。电阻值范围为数mΩ至数百mΩ,该值越小,导通损耗越低。导通电阻会随温度升高而增加,因此在连续工作状态下需以温升后的阻值来计算损耗。在大电流电路中,导通电阻导致的功率损耗是发热的主要原因。

  输出电压范围由负载电阻和晶体管的工作状态决定。集电极电阻越大,电压变化越显著,但会限制集电极电流。在开关电路中,需确保导通状态下电压降较小,关断状态下电压能上升至电源电压。在放大电路中,需通过调整工作点和集电极电阻,确保输出信号不会因输入信号幅度而进入饱和区和截止区。

  功耗和热设计基础(发热与温度管理)

  晶体管的功耗可通过引脚间电压与电流的乘积计算得出。对于双极晶体管而言,集电极-发射极间电压与集电极电流的乘积即为集电极损耗。在MOSFET中,导通状态下会产生与漏极电流平方与导通电阻的乘积相对应的损耗;而在开关过程中则叠加了电压与电流同时存在期间产生的损耗。在高速开关时,开关损耗可能会成为主要损耗。

  容许损耗是为了确保晶体管结温不超过最大额定值而设定的。技术规格书中列出了以壳体温度或环境温度为基准的容许损耗值。当环境温度升高时,容许损耗呈线性减少趋势。

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  在散热设计中,需考虑到晶体管的封装形式和安装方式。TO-220和TO-247等大型封装可安装散热器,适用于大功率工作。在表面贴装型封装中,利用电路板的散热过孔和铜箔图案作为散热路径。在连续工作的电路中,通过计算最恶劣条件下的温升,将结温控制在额定值80%左右的设计方式,可有效确保可靠性。

  晶体管的主要用途及具体示例

  晶体管已被广泛应用于数字电路、模拟电路和电力电子等领域,各领域对其功能要求各不相同。了解其在不同应用场景下的使用区分,可使设计阶段的元器件选型更顺利。

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  在数字电路中的应用(开关、逻辑门)

  在数字电路中,晶体管通过高速切换开和关两种状态来实现逻辑运算与信息处理。在CMOS逻辑电路中,通过采用N沟道MOSFET与P沟道MOSFET配对使用、使其中一方导通时另一方关断的结构来构建逻辑门。CMOS以反相器为基本单元,通过晶体管的串联/并联连接来构建NAND、NOR、XOR等逻辑门电路。在微控制器和FPGA内部,根据产品代别和用途,集成了数百万至数百亿规模的晶体管,能够并行执行复杂的逻辑运算。

  在模拟电路中的应用(微小信号放大)

  在传感器电路中,晶体管负责将微小信号放大并传输至后级电路。温度传感器和应变片输出的数mV至数十mV的信号,将被放大至微控制器的AD转换器可读取的电压范围。在音频放大器中,前置放大器级通常进行数十至数百倍(某些用途和多级结构可达千倍级)的电压放大,而功率放大器级则负责电流放大,为扬声器提供适合的电力。差分放大电路通过将2个晶体管配对使用,在抵消温度变化和电源电压波动影响的同时,检测并放大微小的电压差。

  在电力电子领域中的应用

  在开关电源中,通过晶体管高频开关动作实现电压转换。利用MOSFET的低导通电阻和高速开关特性,通过合理的设计可实现高达90%以上的效率。在电机驱动器中,通过PWM信号控制晶体管的开/关,通过调整平均电流来控制速度。在LED驱动电路中,通过由晶体管和检测电阻组成的恒流电路,实现稳定的发光效果。在逆变电路中,可将直流电转换为交流电,已被广泛应用于光伏发电和不间断电源装置中。功率晶体管在处理高压大电流时,能够在确保电流容量和耐压能力的同时实现高效开关。

  总结:晶体管基础及进阶方向

  本文梳理了晶体管的基本工作原理、种类及功能。双极晶体管属于电流控制器件,而MOSFET则是电压控制器件。通过理解这一基本原理,并掌握根据应用场景进行选型与电路设计的思路,就能在实际的设计实践中做出合理的判断。关于各种晶体管的具体工作特性、实际电路设计及评估方法,通过深入学习双极晶体管(BJT)基础与设计、MOSFET基础与开关电路设计、双脉冲测试及晶体管失效机制等知识,可进一步提升实际设计实践中的判断能力。

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2026-11-05 10:13 阅读量:208
AMEYA360代理丨ROHM IGBT基础篇:什么是IGBT—应用范围、应用示例、结构、工作原理以及其特点
  AMEYA360 作为 ROHM 官方授权代理,深耕功率半导体赛道,可为客户提供罗姆全系列 IGBT、SiC 器件、MOSFET 等功率产品的原厂选型指导、样品申请以及长期稳定的供应链保障。IGBT 是电力电子领域里举足轻重的核心功率器件,广泛扎根于新能源汽车、光伏储能、工业变频、家电逆变、轨道交通等高电压、大功率场景,很多工程师在方案设计阶段都会优先对比 IGBT、MOSFET、双极晶体管之间的差异与取舍。接下来,我们就从定义、引脚、原理、器件对比、应用边界等维度,带大家系统认识这款经典功率器件 ——IGBT。  什么是IGBT  IGBT是“Insulated Gate Bipolar Transistor”的首字母缩写,中文名称是“绝缘栅双极晶体管”。通过结合MOSFET和双极晶体管,IGBT成为同时具备这两种器件优点的功率晶体管。IGBT有N沟道型和P沟道型两种,本文中以目前主流的N沟道型为例展开介绍。  N沟道IGBT的电路图符号及其等效电路如下。有些等效电路图会更详细一些,但这里为了便于理解,给出的是相对简单的示意图。包括结构在内,实际的产品会更复杂一些。有关结构等的详细内容将在后续文章中介绍。    IGBT具有栅极、集电极、发射极3个引脚。栅极与MOSFET相同,集电极和发射极与双极晶体管相同。IGBT与MOSFET一样通过电压控制端口,在N沟道型的情况下,对于发射极而言,在栅极施加正电压时,集电极-发射极导通,流过集电极电流。我们将另行介绍其工作和驱动方法。  前面已经介绍过,IGBT是结合了MOSFET和双极晶体管优点的晶体管。MOSFET由于栅极是隔离的,因此具有输入阻抗高、开关速度较快的优点,但缺点是在高电压时导通电阻较高。双极晶体管即使在高电压条件下导通电阻也很低,但存在输入阻抗低和开关速度慢的缺点。通过弥补这两种器件各自的缺点,IGBT成为一种具有高输入阻抗、高开关速度*(开关速度比MOSFET慢,但比双极晶体管快),即使在高电压条件下也能实现低导通电阻的晶体管。  IGBT和MOSFET等功率器件根据应用产品的使用条件和需求,物善其用,在与其相适合的应用中被区分使用,比如在高电压应用中使用IGBT,在低电压应用中则使用MOSFET。IGBT的适用范围和应用领域将在后续文章中进行介绍。  IGBT的应用范围  IGBT、Si MOSFET、SiC MOSFET和双极晶体管等功率元器件应根据其特点物善其用。此外,功率元器件除了以元器件单品(分立半导体)的形式使用外,将元器件与其他基本部件组合在一起的模块形式也被广泛使用。  下面是从输出容量和工作(开关)频率的角度出发列出的IGBT、Si MOSFET、SiC MOSFET和双极晶体管的适用范围。另外,还对分立产品和模块进行了分类。从输出容量和工作频率的角度看各种功率元器件的适用范围(示意图)  IGBT分立产品覆盖1kHz~50、60kHz的频率范围、稍高于1kVA的输出容量范围IGBT模块的话,根据与其他部件的组合等情况,工作频率上限程度相同,但输出容量范围可高达100MVA以上。随着输出容量的增加,工作频率会因为开关损耗等的限制而降低。  通过这张图,应该可以对每种功率元器件的特点和适用范围有一个整体印象了。  IGBT的应用示例  下图从输出容量和工作频率的角度,列出了IGBT分立产品和模块以及Si MOSFET分立产品的适用范围,以及在适用范围内的适用应用产品示例。应用范围和上一篇文章中给出的范围是一样的,下图中列出了相应范围内的具体应用产品。  从图中可以看出,有些应用产品在重叠范围中,但在处理高电压大电流的电车和HEV/EV领域,主流产品还是IGBT模块。分立式IGBT和Si MOSFET在家电和小型工业设备等应用中的需求很大,主要根据工作频率方面的优点来区分使用。从输出容量和工作频率的角度看各种功率元器件适用范围和应用产品(示意图)  正如在 “什么是 IGBT “一文中所解释的,IGBT 是一种功率晶体管,它将 MOSFET 和双极晶体管的最佳特性结合在一起。 我们将以目前主流的 N 沟道 IGBT 的基本结构为例进行说明。 此后,仅提及 IGBT 时,基本上都是指 N 沟道类型。  IGBT的结构  为了便于理解IGBT半导体的结构,我们首先来回顾一下电路图符号、简单的等效电路以及IGBT的基本工作。  IGBT有栅极、集电极、发射极三个引脚,可以认为,栅极与MOSFET的栅极相同,集电极和发射极与双极晶体管相同。在N沟道IGBT的情况下,IGBT与MOSFET一样,通过电压控制元件相对于发射极在栅极施加正栅极电压VGE时,集电极-发射极之间导通,流过集电极电流IC。  下面是表示IGBT半导体结构的示意图(截面图)和等效电路图。为便于理解而进行了简化。蓝色箭头表示集电极电流IC的流动情况。我们与旁边的等效电路图比较来看。    如图所示,在Nch MOSFET的漏极侧形成了P+集电极层,从集电极到发射极是P型-N型-P型-N型排列的结构。  等效电路图中的Nch MOSFET的漏极和PNP晶体管的基极都相当于IGBT的N-漂移层。栅极是绝缘膜上的薄膜布线,Nch MOSFET的栅极=IGBT的栅极。IGBT的发射极为N+层,与Nch MOSFET的源极相对应。PNP晶体管的集电极为P+,与IGBT的发射极N+层相连接。PNP晶体管的发射极是P+层,相当于IGBT的集电极。  虽然这些有关IGBT的内容听起来有些复杂,但是如果将IGBT的结构用示意图体现出来,就很容易理解IGBT的等效电路图了。  IGBT的工作原理  下面用下列等效电路和截面结构图来说明IGBT的工作原理。 表示IGBT工作原理的等效电路和截面结构示意图  当向发射极施加正的集电极电压VCE,同样向发射极施加正的栅极电压VGE时,IGBT导通,集电极和发射极之间导通,流过集电极电流IC。  将这个动作对应于等效电路时,即当施加正VGE时,Nch MOSFET导通,这会使基极电流IB流过PNP晶体管,最终,PNP晶体管导通,从而使IC从IGBT的集电极流向发射极。  截面结构图中显示了内部电子和空穴(电洞)的运动情况。当向栅极施加正VGE时,电子⊖聚集在栅极电极正下方的P+层中并形成沟道。这与MOSFET导通的原理基本相同。因此,从IGBT的发射极供给的电子沿N+层⇒沟道⇒ N-漂移层 ⇒ P+集电极层的方向移动。而空穴(电洞)⊕则由P+集电极层提供给N-漂移层。该层之所以被称为“漂移层”,是因为电子和空穴两者的载流子都会移动。也就是说,电子从IGBT发射极向IGBT集电极的移动意味着电流(IC)从IGBT集电极流向IGBT发射极。  IGBT的特点:与MOSFET和双极晶体管的比较  在需要功率晶体管的应用中,需要了解每种功率晶体管,例如IGBT、MOSFET、双极晶体管的优缺点并区分使用。现将每种功率晶体管的特点总结如下。  ※◎、○、△为相对比较示意图标  ●MOSFET  MOSFET是由电压驱动的,输入阻抗较高,因此控制时消耗的功耗较少。另外,由于是电子或空穴一种载流子的单极晶体管,所以具有开关速度快的优点。但是,与双极晶体管不同的是,不能利用电导调制效应(Webster效应),因此存在导通电阻随耐压增加而增加的缺点。  ●双极晶体管  双极晶体管具有高耐压且导通电阻*低的优点。双极晶体管具有可利用电导调制效应抑制压降的特点。电导调制效应是在晶体管工作过程中空穴和电子一起移动,空穴注入到N-层,从而使其电阻减小。此外,由于双极晶体管会进行电流放大工作,因此允许流过比所施加电流更大的电流。缺点是输入阻抗低,控制时所消耗的功耗大,而且由于使用的是两种极性的载流子,所以开关速度较慢。  *参数为“饱和电压”。  ●IGBT  IGBT是输入部分为MOSFET结构、输出部分为双极结构的复合型器件,同时具备MOSFET和双极晶体管两者的优点。输入阻抗高,可以用小功率驱动,并且可以将电流放大为大电流。此外,即使在高耐压条件下,导通电阻*也可保持在较低水平。开关速度不如MOSFET快,但比双极晶体管要快。  *参数为“饱和电压”。  IGBT的特点:与MOSFET和双极晶体管的比较 总结  本文对MOSFET、双极晶体管和IGBT进行了比较。IGBT具有耐压高、损耗低、速度较快等优点,但每种晶体管都有其优点,所以基本上还是需要根据应用产品来区分使用。关于各种功率晶体管的适用范围及区分使用方法,请参考“IGBT的适用范围”和“使用了IGBT的应用产品”。  电机应用中的功率器件的区分使用  下图与“IGBT的适用范围”一文中使用的图相同,图中根据不同功率器件的特点列出了不同工作频率和输出容量(VA)下的适用范围。对IGBT、Si MOSFET和SiC MOSFET的分立器件覆盖的面积进行比较后,可以汇总如下。当然,由于每种功率元器件都是多样化的,所以这里是基于通常的概括性特点进行汇总的。  在IGBT与Si MOSFET的比较中,IGBT覆盖输出容量大的低频区域,Si MOSFET覆盖输出容量小的高频区域。  在IGBT与SiC MOSFET的比较中,SiC MOSFET覆盖输出容量大的高频区域。  Si MOSFET与SiC MOSFET覆盖的频率范围相同,但Si MOSFET覆盖低输出容量区域,而SiC MOSFET则覆盖高输出容量区域。 IGBT的适用范围  下图更具体地列出了这些特点,并给出了在电机应用中区分使用它们时的要点。从正确区分使用的角度来看,不同条件下的损耗差异是非常重要的。损耗分导通损耗和开关损耗来考虑。下图中的IGBT、SiC MOSFET、Si MOSFET都是分立器件,“+SBD”和“+FRD”表示外置对应的分立二极管。  在导通损耗方面,如果流过的电流约在5A以下的范围,Si MOSFET优于IGBT,但在5A以上时IGBT表现更出色。该电流区域未被SiC MOSFET覆盖,因此通常考虑采用IGBT或Si MOSFET。Si MOSFET在以小电流运行的系统中占优势,比如家用空调的室外机等在轻负载时正常稳定运行占比多的应用。这也与上述①中的IGBT和Si MOSFET的覆盖范围比较结果一致。  关于开关损耗,随着PWM频率(开关频率)变快,在IGBT+FRD(快速恢复二极管)和SiC MOSFET+SBD(肖特基势垒二极管)之间的比较中,SiC MOSFET+SBD更具优势,与上述②中的比较结果一致。这是由于受IGBT+FRD的特点——导通时的反向恢复电流和关断时的尾电流的影响。SiC MOSFET+SBD因其不会流过尾电流而使开关损耗得以显著改善。  但是,对于电机应用而言,普通的电机多在20kHz以下的较低频率下使用,加上SiC MOSFET在成本方面不占优势,所以目前SiC MOSFET多在特殊应用中使用。在当今的电机应用中,考虑到性能、损耗和成本之间的平衡,IGBT是主流。  综上所述,我们探讨了每种功率器件的特点以及包括成本在内的考量,最终需要根据应用的需求选择合适的产品。在包括逆变器在内的电机驱动应用中,除了上述的“IGBT分立器件+FRD”示例外,被广泛使用的还有面向电机应用的FRD内置型IGBT分立器件和IGBT IPM(智能功率模块)。  综合来看,IGBT 凭借高耐压、低导通损耗、驱动简单、性价比均衡的综合优势,至今仍是电机驱动、逆变器等大功率场景的主流选择,而选型时需要结合工作电流、开关频率、损耗指标、成本预算综合判断,搭配分立 IGBT、内置 FRD 的 IGBT 或是 IPM 智能功率模块,适配不同方案需求。如果您有 ROHM IGBT 相关选型、参数核对、样品与批量供货需求,欢迎联系 AMEYA360,依托 ROHM 原厂技术资源,我们将为您提供专业的器件推荐、技术资料支撑和稳定的元器件供应服务。
2026-11-05 09:13 阅读量:227
ROHM开发出支持GaN高频开关的TP-PFC控制器IC
  2026年10月29日,全球知名半导体制造商ROHM(总部位于日本京都市)宣布,开发出有助于实现小型高效率AC-DC电源的Totem Pole PFC*1(图腾柱PFC,以下简称“TP-PFC”)控制器IC“BM85060FV”,其特点是可在支持GaN HEMT*2高频开关的MHz频段工作。  近年来,随着AC适配器、消费电子和小型工业设备的功能日益强大,设备所需电力也不断增加,与此同时,对设备小型化和节能化的要求也越来越高。而且,在能效法规日趋严格的大背景下,不仅要提高产品工作时转换效率,还要降低无负载(空载)时的功耗。在这种情况下,与传统的Si(硅)功率半导体相比,可支持高频开关的GaN HEMT得到了越来越广泛的应用。此外,将GaN HEMT与TP-PFC电路相结合的电源,因其能显著降低功率损耗而被寄望成为追求高效率和小型化设备的有力电源解决方案。另一方面,传统的TP-PFC控制技术广泛使用MCU,但对于小型电源设备而言,除了功耗、电路规模和成本方面的挑战外,如何实现针对GaN HEMT高频开关的控制也成为亟需解决的难题。  针对这些课题,ROHM开发出能够以低功耗控制采用了GaN HEMT的TP-PFC电路、并支持MHz频段高频开关的专用控制器IC“BM85060FV”。新产品可在AC适配器、投影仪等消费电子设备及小型工业设备所用的300~500W级AC-DC电源中,在系统层面实现高达99%的转换效率。这不仅可抑制功率损耗和发热量,还能通过提高开关频率实现外围元器件的小型化,从而有助于电源电路更加节省空间。  另外,还实现了仅150μA的空载电流,与普通品相比降低了70%*。因此,使用该产品更容易降低系统的待机功耗,有助于构建满足DoE Level7*3和CoC Tier2*4节能要求的电源系统。  不仅如此,新产品还内置防雷击浪涌电路等AC-DC电源所需的各种保护功能,有助于减轻设计负担并提高系统可靠性。  新产品已于2026年10月开始销售(样品价格670日元/个,不含税),并已开始网售(330W预设配置产品),客户可通过AMEYA360购买。另外,ROHM还准备了搭载“BM85060FV”的330W输出TP-PFC评估板,为采用GaN HEMT的高效率AC-DC电源开发提供支持。  未来,ROHM将继续通过提供以GaN HEMT为首的功率半导体,以及与模拟IC相结合、能够更大程度地激发其性能的功率电子解决方案,为电子设备进一步降低功耗和小型化贡献力量。  *截至2026年10月27日ROHM调查数据  <应用示例>  非常适用于AC适配器、投影仪等消费电子设备,以及小型工业设备等以300~500W级功率为主的小型高效率AC-DC电源。  <术语解说>  *1)Totem Pole PFC(TP-PFC)  在AC-DC电源中,为了高效利用输入电源提供的电力所采用的一种PFC(Power Factor Correction:功率因数校正)电路方式。通过用开关器件替换传统PFC电路中使用的二极管整流桥,可降低导通损耗。  *2) GaN HEMT  GaN(氮化镓)是一种用于新一代功率元器件的化合物半导体材料。  与普通的半导体材料Si(硅)相比,其物性更优异,开关速度更快,支持高频率工作。  HEMT是High Electron Mobility Transistor(高电子迁移率晶体管)的英文首字母缩写。  *3)DoE Level7  美国DoE(Department of Energy,美国能源部)针对电子设备外部电源实施的能效要求。对工作时的功率转换效率及无负载时的功耗制定了严格的标准,要求相应产品具备高节能性能。  *4)CoC Tier2  针对电子设备外部电源实施的欧盟CoC(Code of Conduct:行为准则)能率要求。对工作时的功率转换效率及无负载时的功耗制定了严格的标准,要求相应产品具备高节能性能。
2026-11-02 13:05 阅读量:335
明天15点开播!AMEYA360×ROHM:AI 服务器电源技术专场,海量好礼等你拿!
  AI 算力爆发,服务器功耗持续飙升,下一代800V/±400VDC 高压直流供电架构成为行业大势;工业机器人、自动化设备对电源器件效率、可靠性提出严苛考验。  AMEYA360 联合 IDM 大厂ROHM 罗姆,带来专场技术直播,深度拆解 Power Rack AI 服务器电源完整解决方案,同时分享功率器件在机器人领域落地实践,工程师不要错过!  扫描海报二维码即可预约直播,直播间福利多多,多重好礼等你拿!  直播信息  直播时间  10 月 30 日 15:00‑17:00   直播嘉宾  AMEYA360 PM Dean(主持人)  ROHM FAE Musk(原厂技术分享)  直播核心看点  AI 时代功耗危机  AI 服务器耗电量激增背景,传统电源架构瓶颈解析  下一代供电演进  800V 总线高压直流架构优势,降低线缆损耗、减重降铜材成本,DC‑Grid 可再生能源适配方案  ROHM Power Rack 完整方案  IDM 垂直整合优势,SiC MOSFET、GaN HEMT、模拟驱动 IC、分流电阻器全器件矩阵 ✅GPU 功耗迭代趋势:面向 1MW 高功率机架的电源系统设计思路  拓展应用  功率半导体在工业机器人、自动化装备的实际市场应用  在线答疑  设计难题现场问诊,和原厂 FAE 面对面交流  直播间福利  直播互动抽奖,电子周边、礼品等多重好礼等你来!  各位工程师朋友,为了确保中奖后奖品能顺利派发,请记得在参与直播抽奖前花 30 秒填写下方的【登记表】。建议大家现在就可以提前填写锁定资格,这样中奖后小助手就能第一时间为您安排奖品寄送啦!  在登记表下方,我们为大家同步推荐了【ROHM官方技术论坛(ESH)】。接下来,为大家详细介绍一下这个极具含金量的原厂级技术交流平台:  什么是ROHM官方技术论坛(ESH)?  ROHM官方技术论坛(ESH)是罗姆半导体专为电子工程师打造的官方线上技术支持与交流平台。平台汇集海量原厂技术白皮书、应用指南及仿真设计资料,并有罗姆原厂专家在线提供权威的技术答疑与选型支持,助力工程师攻克研发难题,加速产品设计落地。  如何注册/登录ROHM官方技术论坛(ESH)?  工程师可通过以下步骤注册 / 登录:  PC 端入口:  https://esh.rohm.com.cn/s/?language=zh_CN&utm_source=ichunt.com&utm_medium=referral&utm_campaign=250703  移动端入口:  1、点链接进入主页(图 1)点击右上角注册&登录  https://esh.rohm.com.cn/s/?language=zh_CN&utm_source=ichunt.com&utm_medium=referral&utm_campaign=250703图1  2、跳转到(图 2),点击新用户注册&登录图2  3、这个页面比较长要往下滑动才看得到注册按钮,找到注册按钮点击(不要直接填写邮箱登录)  4、 密码要设置的比较复杂,最好设置自己能记住的 (最后登录时需要输入密码) , 行业选项无法选中,可忽略不填   5、提交信息后,去注册邮箱收激活账号的邮件,点击链接激活    6、点击激活链接后,再重新到第一步,点击链接,用邮箱&密码进行登录(必须要登录一次才算有效注册)  https://esh.rohm.com.cn/s/?language=zh_CN&utm_source=ichunt.com&utm_medium=referral&utm_campaign=250703   注:使用 PC 端进行 ESH 注册,邮箱激活后会自动跳转到 ESH 首页并登录,  若没有自动登录且跳转到首页或显示错误,还需要到首页自行登录一次  注册完成后必须要登录才算有效注册!!!      还没有预约直播的小伙伴,扫描海报二维码完成预约,10 月 29 日 14:00,我们直播间不见不散!
2026-10-29 17:08 阅读量:365
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