ROHM课堂丨MOSFET的导通电阻(RDS(on))

发布时间:2026-08-11 11:35
作者:AMEYA360
来源:ROHM
阅读量:630

MOSFET的导通电阻(RDS(on))是指MOSFET处于导通状态时漏极与源极之间的电阻,是影响导通损耗和发热的重要参数。导通电阻(RDS(on))会随着栅极-源极电压(VGS)、漏极电流(ID)、结温(TJ)等条件而变化,通常随温度升高或VGS降低而增加。特别是在电源电路和电机控制电路等大电流应用中,RDS(on)的差异与损耗、温升息息相关,因此掌握技术规格书的解读方法和估算步骤至关重要。本文将介绍RDS(on)的解读方法、导通损耗的计算方法以及根据用途选择器件的要点。

MOSFET的导通电阻与导通损耗的关系

MOSFET的导通电阻(RDS(on))是估算导通时损耗的基准。相比之下,双极结型晶体管(BJT)作为饱和开关使用时,其导通时的损耗主要由集电极-发射极间的饱和电压(VCE(sat))决定。而MOSFET在导通状态下会像电阻一样工作,因此其损耗会与电流的平方成正比增加。下面列出了损耗表示方式的差异。

MOSFET与BJT的损耗表示方式差异

双极结型晶体管(BJT)在作为开关使用并处于饱和状态时,其导通时的导通损耗可通过以下公式计算得出。


集电极损耗: PC=VCE(sat)×IC

对于MOSFET而言,在导通状态下,其漏极-源极间作为电阻(RDS(on))工作,因此导通时的导通损耗可通过以下公式近似计算。


导通损耗: PD≈I2D×RDS(on)

这种损耗以热的形式在MOSFET内部产生,并通过封装和电路板散发出来。因此,RDS(on)越小,导通损耗就越低,从而更容易抑制发热量。需要注意的是,实际的温升,还会受到元器件温度、电路板设计、散热条件、开关频率等因素的影响。

ROHM课堂丨MOSFET的导通电阻(RDS(on))

导通电阻(RDS(on))的电气特性

结合测量条件(VGS / ID / TJ)进行解读

导通电阻RDS(on)并非固定值,其值会随栅-源电压(VGS)、漏极电流(ID)、结温(TJ)等条件的变化而改变。技术规格书中记载的RDS(on)必然与其测量条件相应出现,因此在设计时需要在这些相同条件进行比较,并结合实际运行环境预留充足的裕量。

VGS和ID引起的导通电阻变化:用于损耗计算的RDS(on)的选择方法

ROHM课堂丨MOSFET的导通电阻(RDS(on))

如上述特性曲线所示,导通电阻随栅-源电压的升高而减小。另外,即使在相同的栅-源电压条件下,导通电阻也会随漏极电流的变化而变化。在计算损耗时,应使用与实际施加的栅-源电压(VGS)和预期漏极电流(ID)相近条件下的导通电阻RDS(on)。当技术规格书中给出多个VGS条件时,应以最接近实际栅极驱动电压(例如:4.5V/5V/10V)条件的值或特性曲线为基准。

电阻区(欧姆区)的近似公式及其与导通损耗的关联

当MOSFET处于导通状态并作为电阻工作时,在漏-源电压(VDS)相对较小的区域(电阻区,也称欧姆区),可以使用以下近似公式。

RDS(on)≈VDSID

ROHM课堂丨MOSFET的导通电阻(RDS(on))

下面将使用该RDS(on)估算导通损耗(电流变化时,使用有效值IRMS)。

RDS(on) 随温度升高而增大

RDS(on)也会随温度而变化。通常温度升高时RDS(on)会增大(呈现正温度系数),因此在计算损耗时需要考虑到工作时的温升。

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技术规格书中的值(typ/max)及设计裕量的取法

在电气特性表中,通常会同时给出RDS(on)的typ(典型值)和max(最大值)。在进行损耗和温升设计时,原则上以最大值(max)为基准,并在此基础上,结合温度特性(RDS(on)的温度依赖性)考虑到预期结温(TJ)下的增加量,以确保设计更安全。典型值(typ)可以作为衡量“该产品易于实现多低的电阻”的参考指标,但在需要考虑量产差异和高温劣化的应用场景(最差条件下的损耗计算)中,不建议直接使用典型值。

导通损耗的实际计算方法(结合占空比和温度)

基本公式:导通损耗为 I2 × RDS(on)

MOSFET的导通损耗,基本上可以通过下列公式求得:

PD=I2×RDS(on)

其中,I表示在导通状态下流经MOSFET的电流。

结合占空比和有效值(IRMS)计算平均损耗

在电路设计中,未必总是在恒流恒压状态下工作(直流电路)。在进行PWM驱动或断续工作时,需要考虑到MOSFET导通时间所占的比例(占空比)。因此,平均导通损耗可通过下面的公式求得:

Pavg=I2×RDS(on)×D

其中,D表示占空比(导通比率)。在直流工作状态下,D=1(100%)。

另外,如果电流发生变化,则应使用导通期间所流过电流的有效值(IRMS),通过下面的公式求得:

Pavg=I2RMS×RDS(on)×D

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温升导致的RDS(on)增加的部分,通过“温度系数k”进行补偿

在实际电路中,MOSFET自身的发热会导致结温(TJ)上升,从而使导通电阻大于规格书中的值(通常在25℃下测得)。要想正确估算损耗,需要参考技术规格书中的温度特性,将RDS(on)的增加视为“温度系数k”,并采用以下公式进行计算:

 

ROHM课堂丨MOSFET的导通电阻(RDS(on))

将安装电阻和自发热(热阻)纳入估算

在估算导通损耗时,不仅需要考虑MOSFET的RDS(on),由安装产生的串联电阻(如电路板布线、过孔、连接器等)有时也不容忽视。在mΩ级的应用中,电路整体的导通损耗通常可以作为合成电阻进行估算,即P ≈ IRMS2 ×(RDS(on)+R布线)× D,这样与计算出的值与实际设备的实测值之间的偏差会更小。

另外,要想正确选择温度系数k,首先需要估算出工作时的TJ(结温)。最简单的方法是以环境温度T<sub>A</sub>为基准,通过 TJ ≈ T<sub>A</sub> + Ptotal × RθJA(或者如果已知外壳温度TC,则使用TJ ≈ TC + Ptotal × RθJC)来估算。这里的Ptotal是指总损耗,不仅包括导通损耗,还包括开关损耗。


    1. 首先,根据25℃附近的RDS(on)(技术规格书)计算导通损耗,如有必要再加上开关损耗,得出P_total。

    2. 接下来,根据P_total和热阻Rθ来估算TJ。

  1. 最后,根据温度特性更新为对应TJ的RDS(on)(温度系数倍率k),并在必要时重新计算P_total。

像这样通过哪怕一次“损耗→温度→RDS(on)”的迭代收敛,就能更轻松地获得包含温升在内的设计裕量。

 

不能仅凭导通电阻做选择:导通损耗与开关损耗的权衡

降低 RDS(on) 容易导致 Qg 和寄生电容增加

降低导通电阻(RDS(on))可以减少导通损耗(I2R),但在某些应用中,开关损耗的影响也不容忽视。通常,降低导通电阻往往伴随着芯片面积的增加,这最终会导致栅极电荷Qg和寄生电容增加,从而可能引起开关损耗和栅极驱动损耗上升。

通过RDS(on)×Qg(或 RDS(on)×Qgd)权衡考量

尤其在开关频率较高的电源电路中,不应仅关注RDS(on),还应通过诸如RDS(on)×Qg(或RDS(on)×Qgd)这类指标来看“导通损耗与开关损耗的平衡”,这样更容易选择总损耗最小的器件。导通电阻最小的器件,未必能使电路整体的损耗最小,这是实际应用中的关键点。

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封装对导通电阻值的比较

芯片尺寸(表面积)与封装尺寸的关系

经常听到“封装越大导通电阻越小”的说法,但这里起主要作用的并非“封装表面积本身”,而是该封装中能容纳的硅芯片(Die)的有效面积。由于功率MOSFET采用的是大量单元并联的结构,因此芯片面积越大,电流路径的并联数量就越多,最终导致RDS(on)更容易降低。

另外,技术规格书中记载的RDS(on)并非仅指硅芯片内部的电阻,而是测量自漏极引脚至源极引脚的电流路径中所包含电阻的总和(引脚间电阻)所得的值。也就是说,其中包括芯片内部的沟道电阻、漂移层电阻、金属布线电阻,以及封装侧的引线框架/键合线(或铜夹片)和引脚焊盘的电阻,所有这些的总和。因此,如果封装改变,不仅可容纳芯片面积的上限会改变,而且受封装自身的电阻和散热性能两个方面的影响,RDS(on) 也会发生变化。

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大电流应用中引脚结构和布局(开尔文源极)的作用

在mΩ级的大电流开关中,由于电路板布线和封装的电感(封装寄生电感(公共源极电感)的影响,源极电位会发生波动,从而导致表象上VGS下降,导通状态恶化。为抑制这一影响,有效的方法包括采用支持开尔文源极的封装(可将功率源极引脚与栅极驱动基准源极分离),以及将栅极反馈(源极)布线从电源环路中分离出来的布局设计。在评估时不仅要关注RDS(on)的数值指标,还需综合考量引脚结构和实际安装便利性,这样才能有效减少实际安装后的性能波动。

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2026-11-05 10:13 阅读量:348
AMEYA360代理丨ROHM IGBT基础篇:什么是IGBT—应用范围、应用示例、结构、工作原理以及其特点
  AMEYA360 作为 ROHM 官方授权代理,深耕功率半导体赛道,可为客户提供罗姆全系列 IGBT、SiC 器件、MOSFET 等功率产品的原厂选型指导、样品申请以及长期稳定的供应链保障。IGBT 是电力电子领域里举足轻重的核心功率器件,广泛扎根于新能源汽车、光伏储能、工业变频、家电逆变、轨道交通等高电压、大功率场景,很多工程师在方案设计阶段都会优先对比 IGBT、MOSFET、双极晶体管之间的差异与取舍。接下来,我们就从定义、引脚、原理、器件对比、应用边界等维度,带大家系统认识这款经典功率器件 ——IGBT。  什么是IGBT  IGBT是“Insulated Gate Bipolar Transistor”的首字母缩写,中文名称是“绝缘栅双极晶体管”。通过结合MOSFET和双极晶体管,IGBT成为同时具备这两种器件优点的功率晶体管。IGBT有N沟道型和P沟道型两种,本文中以目前主流的N沟道型为例展开介绍。  N沟道IGBT的电路图符号及其等效电路如下。有些等效电路图会更详细一些,但这里为了便于理解,给出的是相对简单的示意图。包括结构在内,实际的产品会更复杂一些。有关结构等的详细内容将在后续文章中介绍。    IGBT具有栅极、集电极、发射极3个引脚。栅极与MOSFET相同,集电极和发射极与双极晶体管相同。IGBT与MOSFET一样通过电压控制端口,在N沟道型的情况下,对于发射极而言,在栅极施加正电压时,集电极-发射极导通,流过集电极电流。我们将另行介绍其工作和驱动方法。  前面已经介绍过,IGBT是结合了MOSFET和双极晶体管优点的晶体管。MOSFET由于栅极是隔离的,因此具有输入阻抗高、开关速度较快的优点,但缺点是在高电压时导通电阻较高。双极晶体管即使在高电压条件下导通电阻也很低,但存在输入阻抗低和开关速度慢的缺点。通过弥补这两种器件各自的缺点,IGBT成为一种具有高输入阻抗、高开关速度*(开关速度比MOSFET慢,但比双极晶体管快),即使在高电压条件下也能实现低导通电阻的晶体管。  IGBT和MOSFET等功率器件根据应用产品的使用条件和需求,物善其用,在与其相适合的应用中被区分使用,比如在高电压应用中使用IGBT,在低电压应用中则使用MOSFET。IGBT的适用范围和应用领域将在后续文章中进行介绍。  IGBT的应用范围  IGBT、Si MOSFET、SiC MOSFET和双极晶体管等功率元器件应根据其特点物善其用。此外,功率元器件除了以元器件单品(分立半导体)的形式使用外,将元器件与其他基本部件组合在一起的模块形式也被广泛使用。  下面是从输出容量和工作(开关)频率的角度出发列出的IGBT、Si MOSFET、SiC MOSFET和双极晶体管的适用范围。另外,还对分立产品和模块进行了分类。从输出容量和工作频率的角度看各种功率元器件的适用范围(示意图)  IGBT分立产品覆盖1kHz~50、60kHz的频率范围、稍高于1kVA的输出容量范围IGBT模块的话,根据与其他部件的组合等情况,工作频率上限程度相同,但输出容量范围可高达100MVA以上。随着输出容量的增加,工作频率会因为开关损耗等的限制而降低。  通过这张图,应该可以对每种功率元器件的特点和适用范围有一个整体印象了。  IGBT的应用示例  下图从输出容量和工作频率的角度,列出了IGBT分立产品和模块以及Si MOSFET分立产品的适用范围,以及在适用范围内的适用应用产品示例。应用范围和上一篇文章中给出的范围是一样的,下图中列出了相应范围内的具体应用产品。  从图中可以看出,有些应用产品在重叠范围中,但在处理高电压大电流的电车和HEV/EV领域,主流产品还是IGBT模块。分立式IGBT和Si MOSFET在家电和小型工业设备等应用中的需求很大,主要根据工作频率方面的优点来区分使用。从输出容量和工作频率的角度看各种功率元器件适用范围和应用产品(示意图)  正如在 “什么是 IGBT “一文中所解释的,IGBT 是一种功率晶体管,它将 MOSFET 和双极晶体管的最佳特性结合在一起。 我们将以目前主流的 N 沟道 IGBT 的基本结构为例进行说明。 此后,仅提及 IGBT 时,基本上都是指 N 沟道类型。  IGBT的结构  为了便于理解IGBT半导体的结构,我们首先来回顾一下电路图符号、简单的等效电路以及IGBT的基本工作。  IGBT有栅极、集电极、发射极三个引脚,可以认为,栅极与MOSFET的栅极相同,集电极和发射极与双极晶体管相同。在N沟道IGBT的情况下,IGBT与MOSFET一样,通过电压控制元件相对于发射极在栅极施加正栅极电压VGE时,集电极-发射极之间导通,流过集电极电流IC。  下面是表示IGBT半导体结构的示意图(截面图)和等效电路图。为便于理解而进行了简化。蓝色箭头表示集电极电流IC的流动情况。我们与旁边的等效电路图比较来看。    如图所示,在Nch MOSFET的漏极侧形成了P+集电极层,从集电极到发射极是P型-N型-P型-N型排列的结构。  等效电路图中的Nch MOSFET的漏极和PNP晶体管的基极都相当于IGBT的N-漂移层。栅极是绝缘膜上的薄膜布线,Nch MOSFET的栅极=IGBT的栅极。IGBT的发射极为N+层,与Nch MOSFET的源极相对应。PNP晶体管的集电极为P+,与IGBT的发射极N+层相连接。PNP晶体管的发射极是P+层,相当于IGBT的集电极。  虽然这些有关IGBT的内容听起来有些复杂,但是如果将IGBT的结构用示意图体现出来,就很容易理解IGBT的等效电路图了。  IGBT的工作原理  下面用下列等效电路和截面结构图来说明IGBT的工作原理。 表示IGBT工作原理的等效电路和截面结构示意图  当向发射极施加正的集电极电压VCE,同样向发射极施加正的栅极电压VGE时,IGBT导通,集电极和发射极之间导通,流过集电极电流IC。  将这个动作对应于等效电路时,即当施加正VGE时,Nch MOSFET导通,这会使基极电流IB流过PNP晶体管,最终,PNP晶体管导通,从而使IC从IGBT的集电极流向发射极。  截面结构图中显示了内部电子和空穴(电洞)的运动情况。当向栅极施加正VGE时,电子⊖聚集在栅极电极正下方的P+层中并形成沟道。这与MOSFET导通的原理基本相同。因此,从IGBT的发射极供给的电子沿N+层⇒沟道⇒ N-漂移层 ⇒ P+集电极层的方向移动。而空穴(电洞)⊕则由P+集电极层提供给N-漂移层。该层之所以被称为“漂移层”,是因为电子和空穴两者的载流子都会移动。也就是说,电子从IGBT发射极向IGBT集电极的移动意味着电流(IC)从IGBT集电极流向IGBT发射极。  IGBT的特点:与MOSFET和双极晶体管的比较  在需要功率晶体管的应用中,需要了解每种功率晶体管,例如IGBT、MOSFET、双极晶体管的优缺点并区分使用。现将每种功率晶体管的特点总结如下。  ※◎、○、△为相对比较示意图标  ●MOSFET  MOSFET是由电压驱动的,输入阻抗较高,因此控制时消耗的功耗较少。另外,由于是电子或空穴一种载流子的单极晶体管,所以具有开关速度快的优点。但是,与双极晶体管不同的是,不能利用电导调制效应(Webster效应),因此存在导通电阻随耐压增加而增加的缺点。  ●双极晶体管  双极晶体管具有高耐压且导通电阻*低的优点。双极晶体管具有可利用电导调制效应抑制压降的特点。电导调制效应是在晶体管工作过程中空穴和电子一起移动,空穴注入到N-层,从而使其电阻减小。此外,由于双极晶体管会进行电流放大工作,因此允许流过比所施加电流更大的电流。缺点是输入阻抗低,控制时所消耗的功耗大,而且由于使用的是两种极性的载流子,所以开关速度较慢。  *参数为“饱和电压”。  ●IGBT  IGBT是输入部分为MOSFET结构、输出部分为双极结构的复合型器件,同时具备MOSFET和双极晶体管两者的优点。输入阻抗高,可以用小功率驱动,并且可以将电流放大为大电流。此外,即使在高耐压条件下,导通电阻*也可保持在较低水平。开关速度不如MOSFET快,但比双极晶体管要快。  *参数为“饱和电压”。  IGBT的特点:与MOSFET和双极晶体管的比较 总结  本文对MOSFET、双极晶体管和IGBT进行了比较。IGBT具有耐压高、损耗低、速度较快等优点,但每种晶体管都有其优点,所以基本上还是需要根据应用产品来区分使用。关于各种功率晶体管的适用范围及区分使用方法,请参考“IGBT的适用范围”和“使用了IGBT的应用产品”。  电机应用中的功率器件的区分使用  下图与“IGBT的适用范围”一文中使用的图相同,图中根据不同功率器件的特点列出了不同工作频率和输出容量(VA)下的适用范围。对IGBT、Si MOSFET和SiC MOSFET的分立器件覆盖的面积进行比较后,可以汇总如下。当然,由于每种功率元器件都是多样化的,所以这里是基于通常的概括性特点进行汇总的。  在IGBT与Si MOSFET的比较中,IGBT覆盖输出容量大的低频区域,Si MOSFET覆盖输出容量小的高频区域。  在IGBT与SiC MOSFET的比较中,SiC MOSFET覆盖输出容量大的高频区域。  Si MOSFET与SiC MOSFET覆盖的频率范围相同,但Si MOSFET覆盖低输出容量区域,而SiC MOSFET则覆盖高输出容量区域。 IGBT的适用范围  下图更具体地列出了这些特点,并给出了在电机应用中区分使用它们时的要点。从正确区分使用的角度来看,不同条件下的损耗差异是非常重要的。损耗分导通损耗和开关损耗来考虑。下图中的IGBT、SiC MOSFET、Si MOSFET都是分立器件,“+SBD”和“+FRD”表示外置对应的分立二极管。  在导通损耗方面,如果流过的电流约在5A以下的范围,Si MOSFET优于IGBT,但在5A以上时IGBT表现更出色。该电流区域未被SiC MOSFET覆盖,因此通常考虑采用IGBT或Si MOSFET。Si MOSFET在以小电流运行的系统中占优势,比如家用空调的室外机等在轻负载时正常稳定运行占比多的应用。这也与上述①中的IGBT和Si MOSFET的覆盖范围比较结果一致。  关于开关损耗,随着PWM频率(开关频率)变快,在IGBT+FRD(快速恢复二极管)和SiC MOSFET+SBD(肖特基势垒二极管)之间的比较中,SiC MOSFET+SBD更具优势,与上述②中的比较结果一致。这是由于受IGBT+FRD的特点——导通时的反向恢复电流和关断时的尾电流的影响。SiC MOSFET+SBD因其不会流过尾电流而使开关损耗得以显著改善。  但是,对于电机应用而言,普通的电机多在20kHz以下的较低频率下使用,加上SiC MOSFET在成本方面不占优势,所以目前SiC MOSFET多在特殊应用中使用。在当今的电机应用中,考虑到性能、损耗和成本之间的平衡,IGBT是主流。  综上所述,我们探讨了每种功率器件的特点以及包括成本在内的考量,最终需要根据应用的需求选择合适的产品。在包括逆变器在内的电机驱动应用中,除了上述的“IGBT分立器件+FRD”示例外,被广泛使用的还有面向电机应用的FRD内置型IGBT分立器件和IGBT IPM(智能功率模块)。  综合来看,IGBT 凭借高耐压、低导通损耗、驱动简单、性价比均衡的综合优势,至今仍是电机驱动、逆变器等大功率场景的主流选择,而选型时需要结合工作电流、开关频率、损耗指标、成本预算综合判断,搭配分立 IGBT、内置 FRD 的 IGBT 或是 IPM 智能功率模块,适配不同方案需求。如果您有 ROHM IGBT 相关选型、参数核对、样品与批量供货需求,欢迎联系 AMEYA360,依托 ROHM 原厂技术资源,我们将为您提供专业的器件推荐、技术资料支撑和稳定的元器件供应服务。
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