苹果M5芯片首度曝光:台积电代工 用于人工智能服务器

Release time:2024-07-08
author:AMEYA360
source:网络
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  据媒体报道,苹果M5系列芯片将由台积电代工,使用台积电最先进的SoIC-X封装技术,用于人工智能服务器。

  苹果预计在明年下半年批量生产M5芯片,届时台积电将大幅提升SoIC产能。

  目前苹果正在其AI服务器集群中使用M2 Ultra芯片,预计今年的使用量可能达到20万左右。

  作为台积电先进封装技术组合3D Fabric的一部分,台积电SoIC是业内第一个高密度3D chiplet堆迭技术,SoIC是“3D封装最前沿”技术。

  据悉,SoIC设计让芯片可以直接堆迭在芯片上,台积电的3D SoIC的凸点间距最小可达6um,居于所有封装技术首位。

  与CoWoS及InFo技术相比,SoIC可提供更高的封装密度、更小的键合间隔,还可以与CoWoS/InFo共用,基于SoIC的CoWoS/InFo封装将带来更小的芯片尺寸,实现多个小芯片集成。

苹果M5芯片首度曝光:台积电代工 用于人工智能服务器

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芯片防电江湖:HBM、CDM、MM 竟是三大“防雷门派”?
  一、你以为芯片最怕摔?错!真正的“芯片终结者”是隐形杀手“静电”!  像脱毛衣的火花、指尖触碰的瞬间,都可能让芯片 “罢工”。—— 如果这股能量怼到芯片上,直接让它“当场去世”!  这是因为静电放电超快(纳秒级)、电压超高(几千伏),会直接击穿芯片内部精细电路。  冷知识:芯片内部电路比头发丝细100倍,静电放电瞬间(比眨眼快10万倍!)能产生几千伏高压,会直接把晶体管“炸成渣”!  二、江湖传言,芯片界有三大“防雷门派”,用生活场景类比,秒懂!  1.HBM(人体模型)—— 防 “人摸电”  模拟场景:组装工人没戴手环,指尖静电碰到芯片引脚。  测试条件:电容100pF + 电阻1.5kΩ,脉冲宽度约200ns,电流峰值0.67A/kV。  失效阈值:分为Class 1A(<250V)到Class 3B(≥8kV),工业级芯片通常需满足≥2kV。  2.CDM(器件充电模型)—— 防 “自放电”  模拟场景:芯片在运输中摩擦带电,突然放电。  测试特点:脉冲极短(<20ns)、电流峰值大(数十安培)。  失效阈值:按125V~1000V分级,车规芯片要求≥500V。  3.MM(机器模型)—— 防 “机器电”  模拟场景:金属工具(如机械臂)碰到芯片引发的放电。  测试条件:电容200pF + 电阻0Ω,脉冲能量更高失效阈值:通常低于HBM,工业级要求≥200V。(比 HBM 要求低但更“狠”)。  三、一张表看懂三大模型差异  四、防电避坑指南,给芯片“穿防弹衣”的绝招  HBM:引脚别挤太近,多装“避雷针”(TVS管)  CDM:减少芯片内部寄生电容,采用多层ESD保护结构  HBM:遵循IEC 61000-4-2标准,整机需通过±8kv空气/±4kv接触放电测试  结语  ESD防护是芯片可靠性的根本,选择正确的模型并进行适当的测试,才能确保产品的“抗静电”能力达到最佳水平!
2025-06-17 09:46 reading:310
芯片管制升级!商务部:美方倒打一耙!中方坚决拒绝无理指责!
  6月2日,商务部驳斥美方称中方违反中美日内瓦经贸会谈共识的言论。5·12声明发布后中方依规落实,美方却新增多项歧视性措施,包括发布AI芯片出口管制指南、停止对华芯片设计软件(EDA)销售等,严重损害中方权益。中方拒绝指责,敦促美方纠正错误 ,否则将采取措施维护权益。  当日,商务部新闻发言人就美方有关言论答记者问。  有记者问:近日,美方不断有消息称,中方违反中美日内瓦经贸会谈共识,请问商务部对此有何评价?  商务部发言人表示,中方注意到有关情况。5月12日,中美双方发布《中美日内瓦经贸会谈联合声明》后,中方按照联合声明达成的共识,取消或暂停了针对美“对等关税”采取的相关关税和非关税措施。中方本着负责任的态度,认真对待、严格落实、积极维护日内瓦经贸会谈共识。中方维护权益是坚定的,落实共识是诚信的。反观美方,在日内瓦经贸会谈后,陆续新增出台多项对华歧视性限制措施,包括发布AI芯片出口管制指南、停止对华芯片设计软件(EDA)销售、宣布撤销中国留学生签证等。这些做法严重违背两国元首1月17日通话共识,严重破坏日内瓦经贸会谈既有共识,严重损害中方正当权益。美单方面不断挑起新的经贸摩擦,加剧双边经贸关系的不确定性、不稳定性,不仅不反思自身,反而倒打一耙,无端指责中方违反共识,这严重背离事实。中方坚决拒绝无理指责。  《中美日内瓦经贸会谈联合声明》是双方在相互尊重、平等协商原则下达成的重要共识,成果来之不易。我们敦促美方与中方相向而行,立即纠正有关错误做法,共同维护日内瓦经贸会谈共识,推动中美经贸关系健康、稳定、可持续发展。如美方一意孤行,继续损害中方利益,中方将继续坚决采取有力措施,维护自身正当权益。
2025-06-03 14:10 reading:438
一文了解芯片制作所需的半导体材料
  芯片,也称为集成电路,是现代电子设备的核心组成部分。从智能手机到电脑、汽车电子,芯片的普及带来了科技的飞跃。而芯片的生产过程高度复杂,其中半导体材料的选择和应用至关重要。  主要半导体材料  1. 硅(Si)  硅是最常用的半导体材料,占据了芯片产业的主导地位。它具有丰富的资源、优良的电子性能以及良好的制造工艺,适合大规模集成电路的制造。硅晶圆是制造芯片的基础材料。  2. 锗(Ge)  锗具有比硅更快的电子迁移率,曾在早期的晶体管中使用较多。如今,锗在某些高性能或特定应用的半导体器件中仍有应用,如光电器件。  3. 镓砷(GaAs)  镓砷具有更高的电子迁移率和更宽的频带,非常适合高速和高频芯片,如卫星通信、手机和雷达等应用。它的制造成本较高,但性能优越。  4. 氮化镓(GaN)  氮化镓以其高功率密度和高频性能,常用于电源管理、射频器件以及LED照明。近年来,成为新型高效半导体材料。  5. 磷化铟(InP)  主要用于高速通信和光电子器件,因其优异的光电性能,广泛应用于光纤通信。  其他半导体材料  除了以上主要材料外,研究人员还在探索更多新型半导体材料,如二硫化钼(MoS₂)、碳纳米管等,意在实现更高效、更小型化的电子器件。  半导体材料的选择直接影响芯片的性能、功耗和制造成本。硅由于其成熟的工艺和可靠性,仍然是芯片制造的主流材料。然而,随着科技发展,镓砷、氮化镓等材料的应用不断扩大,推动着电子技术的不断创新。从材料的角度来看,创新和发展是芯片行业持续前行的关键动力。
2025-05-22 11:52 reading:357
美国企图全球禁用中国先进计算芯片,中方回应!
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