尼康起诉ASML专利侵权,官方做出回应

发布时间：2017-04-25 00:00
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来源：环球网
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全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 （ASML） 针对尼康 （Nikon） 在三个国家对其专利侵权提起诉讼，ASML表示，尚未就此法律行动收到通知，断然否认任何侵权指控。

ASML认为Nikon的指称缺乏依据。我们将考虑采取所有可行的方案坚定地维护我方权益。
如同在我们的年报里详细披露的， ASML和Nikon在2004年签订了专利交叉授权协议。其中一些专利是被永久授权的，另外一些专利的授权日期在2009年12月31日截止。双方同意互不采取法律行动的过渡期也在2014年12月31日结束。

ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink表示：”Nikon提起的诉讼是毫无根据和不必要的，会给整个半导体行业带来不确定性。在过去几年中， ASML曾多次试图与Nikon就交叉授权协议延展一事进行协商。但Nikon没有为此做出任何真正的努力，反而选择采取法律行动，对此我们感到极其失望。我们仍相信双方协商解决得到的结果对行业来说必然是更好的选择，将推动行业的创新与合作。而这类不必要的专利诉讼将导致行业无法集中精力在真正重要的事情上：即通过技术创新给芯片制造商提供更好的产品和服务。我们双方应该在市场上而不是在法庭上展开竞争。”

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中国首台ASML NXT2000i正式入驻SK海力士无锡工厂

12月19日晚间，中国首台ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。据ASML证实，此次入驻SK海力士无锡工厂确为NXT2000i，也即NXT2000。ASML解释道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的机器。所以NXT2000即NXT2000i。据了解，无锡是SK海力士在中国的DRAM内存芯片生产基地，目前每月晶圆的产量约为14万片。同时，SK海力士还成立了SK Hynix System IC公司，开始进军晶圆代工市场，同时增加1000万美元投资，在无锡扩大模拟IC芯片业务。今年8月份曾有消息表示，ASML已经开始出货新品Twinscan NXT2000i DUV（NXT2000i双工件台深紫外光刻机），可用于7nm和5nm节点。NXT2000i将是NXE3400B EUV光刻机的有效补充，毕竟台积电/GF的第一代7nm都是基于DUV工艺。同时，NXT2000i也成为了ASML旗下套刻精度（overlay）最高的产品，达到了和3400B一样的1.9nm（5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm）。当时ASML只表示这款性能出众的光刻机将于本年度末正式量产，尚未确定光刻机的价格。根据媒体的估计，按照目前ASML的定位，这款光刻机的定价应该在几千万至上亿美元之间。ASML的3400B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台，而14nm节点的光刻机报价则在7200万美元。
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ASML出货速度提升,中芯国际或更快获得EUV

2018年7月18日，ASML公布了2018年第二季度业绩报告。报告指出，ASML第二季度销售额为27.4亿欧元，净利润为5.84亿欧元，毛利率达到43.3%。ASML CEO Peter Wennink表示，第二季度的销售额高于预期，主要是因为EUV的销量高于预期。此外，第二季度的毛利率也高于ASML预期，这也进一步表明了EUV强大的盈利能力。ASML曾表示计划在今年出货20套EUV系统。在第二季度财报中，ASML指出第二季度出货4套EUV系统，比预期多出一套，将能够稳步完成今年的目标。此外，第二季度共接到19.5亿欧元的新订单，其中45%来自于逻辑芯片客户，55%来自于内存芯片客户。新增订单来自中芯国际？这新增的订单来自哪里？据了解，台积电、英特尔和三星电子已经从ASML订购了许多EUV系统。来自供应链消息来源称，就营收而言为全球最大的芯片代工厂商台积电，今年就预订了10套该系统。三星电子公司预订了约6套EUV系统，而英特尔今年将订购3套。全球第二大芯片代工厂商格芯也预订了1套。不难看出，依靠这几家，ASML今年计划的20套EUV销量基本可以实现。在5月份集微网曾报道过，中国大陆最大的晶圆代工厂中芯国际已经订购了一台EUV设备，而这一设备正是购自ASML，价值1.2亿美元。此举表明，中芯国际帮助提升中国本土半导体制造技术的抱负日益增强，尽管中芯国际在这一市场仍落后于市场领先者两至三代技术。那么，这笔新的订单或许就来自中芯国际。不过我们也可看到，ASML的EUV交货数量要比预期要高。ASML表示，目前出货的4套EUV设备是根据原本的生产排期和能力而定的，与此前的下单时间有关。Peter Wennink也指出，“ASML 现阶段的执行重点在于加速提升EUV系统的良率和生产力， 这将为EUV业务提供更强健的基础，有助于实现2019年至少出货30台EUV系统的计划。 ”这是否意味着ASML的出货速度正在提升，中芯国际预定的EUV系统或将更快出货？此外，5月，长江存储也迎来了自己的第一台光刻机，同样是由ASML供应，不过这台机器并不是最新的EUV光刻机，而是193nm沉浸式光刻机，可用于生产20nm-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价7200万美元一台。无独有偶，在上海浦东新区康桥工业园南区，华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（“华虹六厂”）首台工艺设备光刻机也已在5月进厂。据了解，这台光刻机的型号是NXT 1980Di，依然是由ASML供应。官方资料显示，这是一台193nm双级沉浸式光刻机，用于10nm级（14~20nm）晶圆生产，同时它也是大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备。而这些数据都应当已经归入到ASML第二季度的财报之中。光刻机需求持续增长此外，从终端应用来看，2018年第一季度内存芯片市场占比为74%，逻辑芯片占比为26%。到第二季度，内存芯片占比下降到54%，而逻辑芯片占比上升到46%。Peter Wennink指出，“今年内存芯片市场对于光刻系统的强劲需求，推动EUV业务的成长，我们预估市场需求增势将从今年持续到2019年。”具体来看，ASML在电话会议上表示，由于现有的和新兴的市场对于高性能计算的需求，逻辑芯片市场未来的发展依然稳健。这一市场中的客户正在着力推动7nm技术节点，这将会进一步刺激EUV系统需求的增长。同时，因为EUV系统的不断改善，客户对于系统以及逻辑芯片未来工艺路线的信心正不断增加。在内存方面，ASML表示，随着客户技术的迁移和内存容量的增加，几乎每一个客户都需要提升晶圆厂的生产容量，这也将会刺激EUV系统的需求。在此影响之下，ASML正在有计划地推进EUV系统的发展。ASML强调，无论是逻辑芯片还是内存，随着工艺的提高，都需要更好的设备来提高生产力。尤其是随着内存层数的不断提高，层数越多就越需要EUV提高生产力，降低生产成本，因为更高的生产力就意味着更低的成本。从地区分布上来看，韩国的出货量相比于第一季度的51%已下降到了35%。中国台湾地区的出货量从3%上升到了18%，中国大陆的出货量从20%下降到了19%。面向这些市场的产品主要包括EUV、ArF i、ArFdry、KrF、I-Line。其中，EUV的出货量由第一季度的1台上升到7台，ArF i出货量由第一季度的21台下降到了19台，ArFdry由3台上升到5台，KrF依然为19台，I-Line从5台上升到了8台。值得注意的是，由于ASML产品的出货量不高，而产品的价格很高，所以不难看出在财报中，部分产品的销售比重一直较低。而像EUV这类设备，由于单价高，出货速度慢，所以反映在财报中的波动就非常大。此外，也正是因为这一原因，销售地区占比波动也比较大。预计第三季度销售额约27亿-28亿欧元财报中还指出，第二季度共销售了52套全新的光刻设备、7套二手光刻设备。不过对于具体二手设备的销售情况，ASML并没有给出进一步的数据。对于第三季度，ASML表示，2018年第三季度的销售额将会介于27亿至28亿欧元之间，其中来自EUV系统的收入为5亿欧元。毛利率介于47%到48%之间，研发费用为3.95亿欧元，主要用于NXT 3400产品线的研发和EUV生产的提速。ASML还强调，今年EUV的预定出货目标依然是20套，在第三季度将会出货5套。此外，ASML还表示，与2017年相比，2018年预计销售额和利润都会有稳定的增长，尤其是在上半年良好的业绩下，预计下半年的销售额将会更高，公司整体的盈利能力将会更好。
2018-07-20 00:00 阅读量：947
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