SK海力士宣布与<span style='color:red'>台积电</span>合作开发HBM4
  集微网4月19日消息,SK海力士今日宣布,公司就下一代HBM产品生产和加强整合HBM与逻辑层的先进封装技术,将与台积电公司密切合作,双方近期签署了谅解备忘录(MOU)。公司计划与台积电合作开发预计在2026年投产的HBM4,即第六代HBM产品。  SK海力士表示:“公司作为AI应用的存储器领域的领先者,与全球顶级逻辑代工企业台积电携手合作,将会继续引领HBM技术创新。通过以构建IC设计厂、晶圆代工厂、存储器厂三方技术合作的方式,公司将实现存储器产品性能的新突破。”  两家公司将首先致力于针对搭载于HBM封装内最底层的基础裸片(BaseDie)进行性能改善。HBM是将多个DRAM裸片(CoreDie)堆叠在基础裸片上,并通过TSV技术进行垂直连接而成。基础裸片也连接至GPU,起着对HBM进行控制的作用。  * 硅通孔(TSV,ThroughSiliconVia):在DRAM芯片打上数千个细微的孔,并通过垂直贯通的电极连接上下芯片的技术。  SK海力士以往的HBM产品,包括HBM3E(第五代HBM产品)都是基于公司自身制程工艺制造了基础裸片,但从HBM4产品开始计划采用台积电的先进逻辑(Logic)工艺。若在基础裸片采用超细微工艺可以增加更多的功能。由此,公司计划生产在性能和功效等方面更广的满足客户需求的定制化(Customized)HBM产品。  与此同时,双方将协力优化SK海力士的HBM产品和台积电的CoWoS**技术融合,共同应对HBM相关客户的要求。  ** CoWoS(ChiponWafer onSubstrate):台积电独有的制程工艺,是一种在称为硅中阶层(Interposer)的特殊基板上搭载并连接GPU、xPU等逻辑芯片和HBM的封装方式。其技术在2D封装基板上集成逻辑芯片和垂直堆叠(3D)的HBM,并整合成一个模组,因此也被称为2.5D封装技术 。  SK海力士AI Infra担当社长金柱善表示:“通过与台积电的合作伙伴关系,公司不仅将开发出最高性能的HBM4,还将积极拓展与全球客户的开放性合作(OpenCollaboration)。今后,公司将提升客户定制化存储器平台(CustomMemoryPlatform)的竞争力,以巩固公司‘面向AI的存储器全方位供应商’的地位。”  台积电业务开发和海外营运办公室资深副总经理暨副共同营运长张晓强表示:“多年来,台积电与SK海力士已经建立了稳固的合作伙伴关系。通过与此融合了最先进的逻辑工艺和HBM产品,向市场提供了全球领先的AI解决方案。展望新一代HBM4,我们相信两家公司也通过密切合作提供最佳的整合产品,为我们的共同客户开展新的AI创新成为关键推动力。”
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发布时间:2024-04-19 11:03 阅读量:293 继续阅读>>
消息称<span style='color:red'>台积电</span>明年为苹果量产2nm芯片
<span style='color:red'>台积电</span>预计2030年实现1纳米制程芯片生产
  台积电日前在2023年IEEE国际电子元件会议(IEDM)上,发布进军至1nm制程的产品规划蓝图,这一计划与英特尔去年透露的规划类似。  根据规划,台积电将并行推动3D封装和单芯片封装的技术路径的发展。预计在2025年,台积电将完成N2和N2P节点,使得采用3D封装的芯片晶体管数量超过5000亿个,而采用传统封装技术的芯片晶体管数量超过1000亿个。  台积电计划在2027年达到A14节点,并在2030年达到A10节点,即1nm制程芯片。届时,采用台积电3D封装技术的芯片晶体管数量将超过1万亿个,而采用传统封装技术的芯片晶体管数量将超过2000亿个。  据悉,台积电将使用EUV极紫外光刻、新通道材料、金属氧化物ESL、自对齐线弹性空间、低损伤低硬化低K铜材料填充等等一系列新材料、新技术,并结合CoWoS、InFO、SoIC等一系列封装技术。  台积电在会议上还透露,其 1.4nm 级工艺制程研发已经全面展开。同时,台积电重申,2nm 级制程将按计划于 2025 年开始量产。  尽管台积电的发展速度有所放缓,但其在半导体代工领域的竞争对手,如三星等公司,仍在不断努力追赶台积电在先进制程领域的领先地位。今年六月,三星代工公布了其最新的工艺技术发展路线图,计划在2025年推出2纳米制程的SF2工艺,并在2027年推出1.4纳米制程的SF1.4工艺。如果这些计划能够如期实现,三星有可能在与台积电相似的时间节点上实现类似的先进工艺水平。
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发布时间:2023-12-29 14:52 阅读量:1220 继续阅读>>
消息称英特尔Lunar Lake将由<span style='color:red'>台积电</span>生产
三星扩建美国芯片工厂 计划2030年赶超<span style='color:red'>台积电</span>
  台积电作为全球晶圆代工行业的第一,一直是其他代工厂商追赶的目标。三星计划扩建其位于美国得克萨斯州泰勒市的半导体芯片工厂。这家韩国公司最近与一家无晶圆厂半导体芯片公司签订了一项提供先进人工智能处理芯片的合同,而这次芯片工厂的扩建可能就是这份合同带来的结果,该公司希望扩大其芯片生产能力。  据 JoongAng Daily 报道,三星将在其泰勒市的半导体芯片工厂增加一栋建筑,建筑面积约为 270 万平方英尺。建设工作已经开始,三星已经聘请了一家当地的工程公司来负责施工审查和检查过程。根据泰勒市网站上的文件,这栋新建筑目前的名称是“三星制造厂 2”。文件中还写道:“市政府与三星签订了一项开发协议,要求市政府指定资源并创建快速流程,以提供与场地开发和建筑施工活动相关的审查、批准和检查服务。”  这栋建筑将位于市区的西南部,是三星在 2022 年以 170 亿美元的初始投资目标开工的泰勒芯片工厂的一部分。然而,由于建设成本的上涨和新建筑的增加,该预算已经上升到 250 亿美元(IT之家备注:当前约 1805 亿元人民币)。虽然公司没有透露新建筑的具体计划,但有人预计它可能是一个存放原材料的地方或芯片生产线的一部分。  去年,三星向美国政府提出了在得克萨斯州的11个半导体芯片工厂获得税收优惠的申请。该公司承诺在未来20年内投资近2000亿美元,目标是在2030年成为全球最大的半导体芯片公司并超越台积电,成为世界上最大的合同芯片代工厂。
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发布时间:2023-11-22 10:05 阅读量:1227 继续阅读>>
<span style='color:red'>台积电</span>计划在日本建第三工厂 生产3纳米芯片
  据知情人士透露,台积电考虑在日本建设第三座芯片工厂,生产先进3纳米芯片;这可能使日本成为一个重要的全球芯片制造中心。知情人士说,这家芯片代工大厂已经告知供应链合作伙伴,其考虑在日本南部的熊本县建设第三个工厂,项目代号台积电Fab-23三期。  台积电目前正在日本建设第一个工厂,生产性能低一些的芯片;据知情人士指出,还计划建设第二座芯片工厂。目前尚不清楚何时开建第三工厂。3纳米芯片制程是目前商用的最先进芯片制造技术,不过等到新工厂量产时,3纳米可能会落后届时最新技术1-2个世代。  对此,台积电发言人表示:“我们将根据客户需求、运营效率、政府补贴、经济状况等来决定产能扩张策略。台积电致力于长期满足客户需求并支持半导体行业。” “我们正在进行投资,以应对制造业的结构性变化。我们正在考虑在日本建设第二家工厂的可能性,但目前我们没有进一步的信息可以透露。”  日本首相岸田文雄(Fumio Kishida)政府一直在提供数万亿日元的补贴,以吸引国内外半导体企业的投资。除了台积电,日本还成功获得了美光科技、三星电子和力积电(Powerchip)的投资。日本官员还帮助国内初创企业Rapidus公司在北海道建立尖端2nm芯片的生产线。  据了解,一个3纳米晶圆厂的成本可能高达200亿美元,其中包括用于生产的机器,尽管具体的成本将取决于工厂何时建成,以及如何获得土地和其他材料。目前尚不清楚台积电预计在第三家晶圆厂投入多少资金。日本通常承担此类设施成本的50%左右。
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发布时间:2023-11-22 10:00 阅读量:1260 继续阅读>>
英飞凌、恩智浦和博世获德国批准入股<span style='color:red'>台积电</span>芯片厂
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发布时间:2023-11-10 14:28 阅读量:1660 继续阅读>>
消息称<span style='color:red'>台积电</span>日本二厂将生产6纳米芯片
英特尔与<span style='color:red'>台积电</span>联手开发多晶片封装芯片
<span style='color:red'>台积电</span>官宣收购英特尔旗下IMS,认购Arm股份

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